中古 LAM RESEARCH 490 #9244799 を販売中

ID: 9244799
Etcher Gases: Nitrogen, Oxygen, Sulfur Hexafluoride, Helium, Chlorine.
LAM RESEARCH 490は、高速性能とより大きなプロセス制御のための高度な機能を提供するエッチャー/アッシャーです。このエッチャー/アッシャーは、リニア垂直エッチング/アッシング技術を活用して、半導体の処理性能とプロセス制御の究極の機能を提供します。490は2つの異なるチャンバーで構成されています。エッチングチャンバーは真空ベースのプロセス環境を提供し、アッシングチャンバーは大気ベースのプロセス環境を提供します。エッチャー/アッシャーには4フレームのリニアステージも装備されており、従来の2フレームのモデルよりも広いサンプル領域を提供します。LAM RESEARCH 490のエッチングチャンバーには、RFおよびマイクロ波源を搭載し、ドライエッチング、ウェットエッチング、エッチング後の処理など、幅広いエッチングおよびアニール技術を可能にします。エッチングチャンバーには可動基板と固定基板を積み込むことができ、幅広い基板と機能サイズを提供します。エッチングチャンバーは、ペリクルのない操作も可能で、均一なサンプルエッチング用の石英シャワーヘッドが含まれています。490のアッシングチャンバーは、より大量生産のために石英ボックススタイルのプラズマガンを使用しています。このチャンバーには、基板の効率的な積み下ろしのためのロードロックと転送システムも装備されています。両チャンバとも、流量、圧力、温度のクローズドループ制御、およびエンドポイント検出機能を提供します。LAM RESEARCH 490は、精密洗浄プロセス、酸化物リフトオフ機能、プロセスカセットシステムなどの高度な機能も提供します。このエッチャー/アッシャーは、スルーウォールガス配分と、ガス配送効率を最大限に高めるデュアルウォールガスラインを備え、処理ガスを最適に利用するように設計されています。さらに、このエッチング/アッシャーには高度なオートメーションが装備されており、さまざまなアプリケーション要件に対応するさまざまなプロセスレシピを提供します。490は、高性能、プロセス制御、精度を提供する強力で信頼性の高いエッチャー/アッシャーです。LAM RESEARCH 490は、幅広いエッチング技術とアッシング技術、プラズマガン、フォワード・ルッキング・オートメーションにより、さまざまな半導体加工ニーズに最適なソリューションです。
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