中古 LAM RESEARCH 490 #293771117 を販売中

LAM RESEARCH 490
ID: 293771117
ウェーハサイズ: 6"
Etchers, 6".
エッチングアッシャーとしても知られるLAM RESEARCH 490は、プラズマエッチングと半導体材料の受動化のために設計された装置です。これは、非常に高いレベルの精度、再現性、およびプロセス制御を達成しながら、基板の広い範囲でカスタム、複雑な機能を生成するために使用することができます。490は、プラズマ技術を利用して基板上に薄い層の材料をエッチングして堆積させ、明確なエッチングパターンを作成します。このシステムは、シリコン、ヒ素ガリウム、アルミナなどの様々な材料に使用できます。このユニットには、電子サイクロトロン共鳴(ECR)プラズマ源、無線周波数(RF)電源、および反応室温度を制御するチラーが含まれています。ECRプラズマ源は非常に均一なプラズマを可能にし、基板のすべての領域に均一なエッチング深度を確保します。一方、RF電源はプロセスを開始し、プラズマパラメータを調整して正しいエッチング速度を確保するために必要な電力を提供します。温度調節はさらに均一な結果を保障するのを助けます。LAM RESEARCH 490は、さまざまなエッチング作業を正確かつ高精度に実行できるいくつかの機能を提供します。例えば、このマシンには自動チューニング機能が搭載されており、処理される基板のタイプにプロセスパラメータを簡単に最適化および制御できます。さらに、このツールには、圧力、温度、電界などの重要な変数を監視および調整するセンサアセットが含まれています。このフィードバックループは、プロセスが最適な効率で実行されるようにするのに役立ちます。このモデルには、さまざまな交換可能なコンポーネントやアクセサリーも含まれており、幅広い材料やアプリケーションで使用できます。これらには、ウェーハリフト装置、エンドエフェクター、サーマルチャック、およびユーザープログラマブルエッチレートが含まれます。さらに、490にはオートサンプラーを装備することも可能で、複数のウェハを連続して処理することができます。要するに、LAM RESEARCH 490は、さまざまな基板にカスタムで複雑な機能を提供するように設計されたエッチングシステムです。ECRプラズマ源、RF電源、オートチューニング機能、センサーユニット、ウェハリフトマシン、エンドエフェクタ、サーマルチャック、および精度、再現性、プロセス制御を保証するためのユーザー設定可能なエッチレートを備えています。さらに、オートサンプラーを使用すると、複数のウェーハを連続して処理できます。
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