中古 LAM RESEARCH 490 #293616826 を販売中

LAM RESEARCH 490は、半導体デバイスの製造に使用される高度なエッチャー/アッシャーです。エッチャー/アッシャーは、高アスペクト比エッチング用に設計されており、クラスタツールアーキテクチャの一部であるマルチゾーンプロセスチャンバーで構成されています。マルチゾーンプロセスチャンバーは、基板全体にわたってゾーンの均一性を容易にするために石英壁を備えています。490の最初のゾーンは、ロボットを使用してウェーハをロードステーションからチャンバーに転送するウェーハ転送ゾーンです。その後、ウェーハはポリマービーズとエッチング剤の穏やかでありながら一貫した混合物で攪拌され、均一なエッチング率を提供します。エッチャー/アッシャーの第2ゾーンは、プロセスのエッチング速度と均一性を高めるために誘導結合プラズマ（ICP）が使用されるプラズマゾーンです。ICPは、プラズマを正確に制御するための高度なアーク制御装置を備えています。チャンバーの3番目のゾーンには、選択的な二酸化ケイ素エッチングを行うために使用される化学蒸着（CVD）システムがあります。4番目のゾーンは、エッチング処理が完了した後に壁と基板を冷却する冷却と通気ゾーンです。チャンバーの5番目のゾーンは、エッチング中に発生するエッチング蒸気やその他のガスを排出する排気ゾーンです。LAM RESEARCH 490エッチャー/アッシャーは、基板全体に均一なエッチングで高いアスペクト比の開口部を生成することができます。その高度なアーク検出ユニットはプラズマを正確に制御し、CVDマシンはエッチングの選択性を高め、プロセスの均一性を向上させます。さらに、冷却および通気ゾーンは、基板の歪みを低減し、複数の基板にわたって一貫したエッチング速度を維持するのに役立ちます。