中古 LAM RESEARCH 490 #199861 を販売中

LAM RESEARCH 490は、半導体デバイス製造に使用されるエッチャー/アッシャーです。この装置は、低エネルギーの誘導結合プラズマ（ICP）源と0。25ミクロンのプロセス形状を可能にする特殊なガス供給システムを備えています。490は、高いプロセススループットと歩留まりを備えた高精度エッチング用に設計されています。LAM RESEARCH 490ユニットのエッチング処理は、並列プレートまたは回転ソースICPによって行われ、プロセス変数を正確に制御できます。ソース電力は、異なる材料に対応するために調整可能です。490のガス供給機は最大5つのガスラインで構成されており、プラズマプロセスで使用されるガスの混合を制御することができます。ガスミックスは、最適なエッチング工程を確保するために密接に監視されています。LAM RESEARCH 490の回転可能なソース構成はまた、緊張したシリコンなどの繊細な構造をエッチングする際にイオン爆撃の量を減らすために使用されるロータリーシャッターを備えています。さらに、490ツールはさまざまな化学ミックスを使用することができ、エッチング処理に柔軟性を提供します。これは、信頼性の高いパフォーマンスを提供しながら、耐用年数とコスト管理を最適化するのに役立ちます。LAM RESEARCH 490アセットは、高度なソフトウェアも備えており、ユーザーはデバイスの特定のニーズを満たすためにプロセスレシピを構成することができます。さらに、490モデルは、最大1,000レシピのストレージ容量で、優れた再現性を提供します。精密クランプ装置は、処理中にウェーハがワープしないようにし、プログラマブルガス分配ボックス（PDB）はエッチング工程の均一性を向上させます。さらに、LAM RESEARCH 490の自動エンドポイント検出システムは、推測を排除し、毎回正確な結果を提供します。490エッチャー/アッシャーは、最先端技術の製造のための半導体デバイスの高速、一貫した、正確なエッチングとアッシングのために設計された高度なユニットです。高容量、高精度、再現性により、他のシステムとは一線を画し、チップ製造の信頼性の高いソリューションとなっています。