中古 LAM RESEARCH 490 / 590 #9145832 を販売中

ID: 9145832
ウェーハサイズ: 4"-6"
Etcher, 4"-6" ENI OEM 12 RF Generator.
LAM RESEARCH 490/590エッチャー/アッシャーは、半導体デバイスの製造に使用するために設計された真空チャンバーです。高性能な電子ビームガンを搭載し、さまざまなフォトレジスト材料でサブミクロンパターンを生成することができます。このシステムは、最大500mm/秒の速度でパターンをウェーハにエッチングすることができ、フィーチャーサイズは0。01〜3。0ミクロンです。490/590シリーズは、高度なプラズマエッチング機能、高度な平面化およびパターン化プロセスも提供します。チャンバーは高度に構成可能で、エッチングプロセスを特定のデバイス要件に最適化するための多くのオプションがあります。プラズマ源は、より良いエッジ定義と選択性で形状をエッチングするためのイオンフラックスとイオンエネルギーを制御するために調整することができます。チャンバーには、ユーザーを保護し、ウェーハを損傷状態にさらさないようにするための多くの安全機能があります。LAM RESEARCH 490/590は、エッチング機能の深さとプロファイルを正確に制御し、処理中のウェーハの損傷を低減するための堅牢な輪郭処理装置を備えています。システムは光学的に調整することができ、ウェーハ全体に均一なエッチングを提供します。真空チャンバは、複数の層を同時にエッチングできるように構成することができ、スループット時間を短縮できます。490/590は、さまざまなウェット処理システムと互換性があるように設計されており、製造シーケンス内の他のシステムと同期することができます。このユニットには、生産ラインへの容易な統合を可能にする高度なオートメーションマシンが装備されています。このシステムは、最も厳格な清浄度の基準を満たすように設計されており、ウェーハが製造プロセス全体にわたって欠陥のない状態であることを保証します。LAM RESEARCH 490/590シリーズは、エッチング後のプロセスのための幅広い前駆体やその他の材料とも互換性があります。490/590は、半導体、医療機器、MEMSデバイス製造など、幅広い業界の精密エッチング用途に最適なソリューションです。エッチャー/アッシャーは、速度と精度のために構築されており、その堅牢な設計により、今後数年間一貫した結果が得られます。
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