中古 LAM RESEARCH 4720W #9149817 を販売中

LAM RESEARCH 4720W Asherは、LAM RESEARCHの最先端の半導体ウェットエッチング装置です。このウェットエッチングシステムは、半導体プロセスの初めに高いプロセス均一性と歩留まりを提供するように設計されています。薄膜を迅速かつ効率的に生成する能力を備えた4720Wは、複数のプロセスにとって貴重なツールです。このユニットは3チャンネルのプラズマエッチングヘッド設計を採用しており、最大3つのダイを同時にエッチングできます。その高度なメンブレンバルブ技術は、独立したフロー制御のための2つの反応ガスフローを正確に提供します。これにより、基板サーフェス全体で最大の均一性を得るためのエッチングダイナミクスを正確に定義できます。メンブレンバルブマシンは、エッチングツールの粒子汚染を低減します。LAM RESEARCH 4720Wはシングルウェーハロックを備えているため、入力段階から高真空プロセスチャンバーに簡単にオンラインウェーハを転送できます。プロセス中、磁気浮上ロータリーチャックは基板温度の均一性を維持します。チャックの回転トルクは長時間にわたって制御され、エッチング構造の品質をさらにサポートします。このアセットは低温ベーク機能も備えており、基板を燃やすことなく高温処理を行うことができます。4720Wには、トリプルフィルトレーションを使用した高度な粒子管理モデルが含まれています。この高度なろ過装置は、処理中にエッチングされた構造物にクリーンな粒子のみを供給することを保証します。また、プロセスチャンバー内の汚染を最小限に抑えます。さらに、LAM RESEARCH 4720Wは、エッチングプロファイルを監視するために使用できるリアルタイムのエンドポイント検出、およびエッチングプロセスの進捗状況と均一性を監視する機能を備えています。このリアルタイム監視機能により、プロセスのシフトをすばやく検出し、迅速に調整できます。4720W Asherは、半導体エッチング用の信頼性の高い費用対効果の高いツールです。高度な技術とトリプルフィルトレーションシステムにより、ユーザーは非常に均一な構造を短時間でエッチングすることができます。したがって、半導体デバイスメーカーは、このユニットを製造プロセスに採用することから大きな恩恵を受けることができます。