中古 LAM RESEARCH 4526 #9135993 を販売中
URL がコピーされました!
ID: 9135993
ウェーハサイズ: 6"
Oxide RIE etcher, 6"
HINE 38A Indexer
Clamp
ADVANCED ENERGY PDW2200 RF Generator.
LAM RESEARCH 4526は、半導体ウェーハ処理用に設計されたエッチャー/アッシャーです。この多目的機器は、フォトレジスト、金属、酸化物、窒化物などの幅広い材料をエッチングし、アッシングすることができます。パターニング、ドーピングなど様々な用途に使用される汎用性の高いツールです。このシステムには2つの強力なプラズマ源が装備されており、最大385°Cの最高温度範囲で直径200mmまでのウェーハを処理できます。この機械にまたユーザーが精密のサンプルを熱するか、または冷却することを可能にする高度の温度調整および均等性の監視があります。さらに、4526には高速下流ロボットガントリーが装備されており、高速で信頼性の高い材料搬送が可能です。このシステムには、欠陥追跡や自動チャンバークリーニングなどの高度なソフトウェア機能、およびさまざまな基板にエッチングおよびアッシングプロセスをチューニングするために使用できるさまざまなプロセスレシピが付属しています。これにより、ユーザーはアプリケーションごとにカスタマイズされたエッチレシピを作成し、優れたプロセス結果を保証できます。その柔軟性から、LAM RESEARCH 4526は幅広い生産プロセスに適しています。このマシンは、ウェーハスループットを最適化し、歩留まり率を向上させ、汚染を低減するように設計されています。さらに、堅牢な制御スイートと直感的なソフトウェアにより、マシンの汎用性と使いやすさが大幅に向上します。これにより、研究および業界アプリケーションの両方に最適です。全体として、4526は信頼性が高く汎用性の高いエッチャー/アッシャーであり、ユーザーのニーズを満たすように設計されています。その高度な機能と高性能は、あらゆるウエハ加工ラボに最適です。
まだレビューはありません