中古 LAM RESEARCH 4520i #9130287 を販売中

ID: 9130287
ウェーハサイズ: 6"
Oxide etcher, 6" (2) Press chambers Chamber  cooling: TCU  Lower electrode: ESC with backside helium Chamber  cooling             TCU  Main Gas : Ar  1000, CF4, CHF3 ,He 1000, SF6 100, O2 20 ISO Gas : NF3  500, He 500, O2.
LAM RESEARCH 4520iは、超高アスペクト比エッチングプロセスを提供するように設計されたエッチャー/アッシャーです。このエッチャー/アッシャーは、半導体ダイパッケージなどの幅広い用途に適した小型高温機器です。4520iは225°Cおよび180°Cで、それぞれエッチングおよびアッシャーの適用のために処理します。このシステムは、優れた高アスペクト比エッチング機能のための特許取得済みのマルチノッチECRエッチングを備えています。マルチノッチエッチャーは、エッチングチャンバーで磁化されたガス分配コイルと、エッチングサイトとして機能する2つのセラミックノズルの2つの主要部分で構成されています。ガス分配コイルは、一貫したプロセスを提供するためにエッチングガスの均一なプルームを作成します。セラミックノズルは、ディープエッチングのために基板に集中する一連の小さなエッチングイオンを作成します。LAM RESEARCH 4520iは、高速マイクロコントローラベースの制御ユニットを使用しており、さまざまな電力、温度、圧力設定を簡単に調整できます。エッチングプロセスは、プロセスオートメーションとデータロギング機能を提供するプログラマブルロジックコントローラ(PLC)で保護されています。空気のろ過機械はまたきれいな操作を保障します。4520iを選択する利点には、コスト効率、優れた精度、高解像度、および高スループットがあります。LAM RESEARCH 4520iは、可変エッチング領域、広い深さのエッチング深度、層ごとのエッチング機能により、最も要求の厳しい要件に対応できます。4520iは、穴やその他のパターンを介して小さなエッチングを可能にすることで、流出を最小限に抑え、高い歩留まり率で優れたプロセス制御を提供します。最後に、高精度の自動制御ツールとモニタリング機能により、LAM RESEARCH 4520iはエッチングおよびアッシングアプリケーションにおいて効果的なツールとなります。
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