中古 LAM RESEARCH 4520 #9389918 を販売中

LAM RESEARCH 4520は、半導体デバイスの製造に必要な精度、速度、品質管理を実現するクラスタプラットフォームのエッチャー/アッシャーです。この装置は、高度なチャンバー制御システムと統合マスフローコントローラを備えた複数の高精度エッチングおよびアッシングチャンバーで構成されています。4520は、並列処理機能と高温処理機能を備え、非常に高速なスループットと信頼性を提供するように設計されています。LAM RESEARCH 4520エッチャー/アッシャーは、3つの高度なエッチングおよびアッシングチャンバーを備えており、それぞれが異なるタイプの処理に最適化されています。プラズマエッチングチャンバーは、ウェーハのプラズマクリーニング、サンプル前処理、エッチングおよびアッシング用に設計されています。直径5インチまでのウェーハ加工が可能で、プロセスパラメータを正確に制御するための可変周波数ドライブを備えています。ウエハの超高密度エッチングやアッシングに最適な超高密度チャンバーで、直径8インチまでのウエハ加工が可能です。また、精密なプロセス制御のための高度な統合コンポーネントの範囲が装備されています。最後に、ウェットエッチングチャンバーは高精度のウェットエッチングとアッシングを提供し、積層フローコントローラ、温度コントローラ、圧力センサーを内蔵しています。4520のエッチングおよびアッシング処理は、Siemens Simatic S7に基づくPLCを含む一連の高度なコンポーネントによって制御され、プロセスパラメータを正確かつ正確に制御できます。高度なプロセスコントローラも統合されており、温度、時間、圧力、反応条件をリアルタイムで監視し、最大精度、精度、歩留まりを自動で最適化します。また、エッチング/アッシュサイクルごとに安定したプロセスパラメータを提供する高度なマスフローコントローラを備えています。また、低温走査型電子顕微鏡、X線光電子分光、残留ガスアナライザ、表面プロファイラなど、幅広い診断ツールを備えています。これらのツールは、エッチング/アッシュプロセスを正確に制御し、プロセスパラメータを正確に制御し、プロセスの問題を監視およびトラブルシューティングすることができます。LAM RESEARCH 4520は、極端な信頼性と高温処理用に設計されており、複数のウェーハの並列処理やレシピストレージなどの高度な機能を提供し、プロセス手順を簡単にリコールできます。このツールには、レシピベースの自動プロセス制御を提供する高度なプロセス制御ソフトウェアパッケージと、資産を最適化するためのユーザーフレンドリーなインターフェイスも装備されています。さらに、4520には、プロセスステップが失敗してもモデルを安全に操作できるメンテナンスモードなど、さまざまな高度な安全機能が含まれています。全体として、LAM RESEARCH 4520は、半導体デバイスの製造に最適な高度で信頼性の高いエッチングおよびアッシング装置です。プロセスパラメータと高度な診断を正確に制御することで、非常に高速なスループットと信頼性を提供し、最高の精度と歩留まりを達成するための貴重なツールとなります。