中古 LAM RESEARCH 4520 #199859 を販売中
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ID: 199859
ウェーハサイズ: 8"
TCP oxide etch system, 8"
Can be converted to 6"
Mounting: bulkhead
Software: Envision 1.52
Indexers: HINE
AC box: -002
Gas box: orbital welded
Clamping: ESC
Backside helium: close loop
Generator: PDW 2200
RF match: LOFAT
Endpoint: monochrometer
MFCs: Unit 1660
Gas config:
Gas 1: Ar 1000
Gas 2: N2 200
Gas 3: O2 200
Gas 4: CH4 200
Gas 5: CHF3 50
Gas 6: SF6 50
Gas 7: O2 1000.
LAM RESEARCH 4520エッチャー/アッシャーは、さまざまな半導体およびマイクロエレクトロニクス材料に使用される高度で完全に自動化されたデジタル制御プラズマエッチャー/アッシャーです。このマシンは、ユーザーの生産性、精度、精度を向上させるためのいくつかのユニークな機能を提供します。4520は長期使用を高める強く、耐久材料から組み立てられます。機械部品は簡単にアクセスでき、交換可能であるため、ダウンタイムを最小限に抑えてメンテナンスと修理を実現できます。デジタルコントロールパネルにより、処理パラメータを効率的かつ正確に制御できます。LAM RESEARCH 4520エッチャー/アッシャーが提供する高い処理精度と再現性により、より高品質なデバイスの製造が可能になります。デジタルコントロールパネルには、エッチング時間、圧力、およびコンポジションを即座に調整できる、異なるキーとエンコーダも備えています。このマシンには2つの独立したチャンバーがあり、シングルオペレーションでのダブルウェーハ処理に対応しています。このデバイスは、厚膜および薄膜基板の化学的および物理的エッチングにさまざまなエッチングガスおよびプロセス流体を使用することができます。シリコン、ヒ素ガリウム、その他の半導体材料など、さまざまな材料を修正およびエッチングするために使用できます。4520は危険な条件からオペレータおよびプロダクトを保護する高度の安全機能が装備されています。機械に組み込まれている安全規定には、ガス爆発監視、圧力安全インターロック、および緊急停止ボタンが含まれます。さらに、完全に密閉されたシステムを使用することにより、使用されている有害物質や真空が含まれています。このマシンは非常に汎用性が高く、モジュラー構造により、ユーザーはプロセスのニーズを満たすようにシステムを構成することができます。さらに、LAM RESEARCH 4520エッチャー/アッシャーは、国際的な安全規制基準を満たすように設計されています。これにより、ユーザーは安全で信頼性が高く、準拠した方法でマシンを動作させることができます。結論として、4520エッチャー/アッシャーは、半導体デバイスとマイクロエレクトロニクスの製造に理想的な選択肢です。高度な安全機能、正確で精密なデジタルコントロールパネル、簡単なメンテナンスと修理により、このマシンはユーザーに高い生産性のための究極のツールを提供します。
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