中古 LAM RESEARCH 4520 XL #9292773 を販売中

LAM RESEARCH 4520 XL Asher/Etcherは半導体産業で使用するために設計された高度なデバイスです。ウェットエッチングとドライエッチングの両方に最適なデュアルチャンバー装置です。典型的な作業としては、金属エッチング、拡散処理、結晶エッチングなどがあります。この単位は非常に高精度および正確さのケイ素、アルミニウムおよび他の金属合金を沈殿させ、エッチングするのに使用することができます。LAM RESEARCH 4520XLは、独自のプラズマプロセスを使用してエッチング深度を正確に制御し、幅広いアプリケーションを可能にします。プラズマデスミアリングや金属抵抗アニーリングなどの洗練された組み込み機能により、複雑な製品構造を容易に作成できます。また、柔軟なチャンバー設計により、幅広い材料を加工することができます。4520 XLには、完全なプロセス監視を可能にする複数の高度なフィードバックおよび制御システムがあります。これには、ウェーハの物理状態および化学状態のリアルタイム可視化と、フルレンジのプロセスシミュレーションを実行する機能が含まれます。これにより、各エッチングジョブの一貫性を維持しやすく、納期を短縮できます。さらに、4520XLには、エッチングの深さと幅を測定するためのレーザーベースのビードプロファイリングツールが統合されています。これにより、エッチング深さを正確に制御し、必要に応じて基板プロファイルを改善できます。このアセットはまた、3層のリモート監視機能を使用して、ユーザーがモデルの現場データにリモートでアクセスできるため、プロセスの問題のトラブルシューティングが容易になります。LAM RESEARCH 4520 XLはまた、プロセスの変更に対する適応性を向上させ、各ジョブでパラメータを微調整するためのレシピオプションを拡張しました。これは、エッチングプロセスを最適化し、貴重な結果を生み出すのに役立ちます。この機器には、エッジ除去に費やす時間とコストを節約するためのエッジ除外機能も内蔵されています。全体として、LAM RESEARCH 4520XLは半導体業界の厳しい要件を満たすように設計された高度なエッチングシステムです。堅牢な設計と高度な制御機能により、迅速かつ正確な結果を得ることができ、あらゆる産業作業にとって貴重な資産となります。