中古 LAM RESEARCH 4500i #9250092 を販売中

LAM RESEARCH 4500iは、高度な半導体デバイス製造用に特別に設計されたドライエッチャー/アッシャーです。プラズマ強化化学蒸着（PECVD）、リアクティブイオンエッチング（RIE）、インダクティブカップリングプラズマ（ICP）の3つのエッチング技術を独自に組み合わせて、基板上の望ましいエッチプロファイルを幅広く実現しています。金属ゲートのトレンチや接触エッチング、STI用のスペーサーエッチング、相互接続用ダマシンおよび誘電エッチング、ウェハトリミングおよび裏面エッチング用途に使用できます。4500iは300°Cまでの基質の温度の200mmまで多数のウエハのサイズが可能です。LAM RESEARCH 4500iは、非常に高度なエッチングシステムで、多くの異なる利点があります。これには、高速四極質量分析計（QMS）、最大負荷最大26ウェハの大型石英チャンバ、エッチング用のさまざまなプロセスガスなど、幅広い技術的特徴が組み込まれています。LCD制御マルチガス動的電源システムは、動的プロセスに最適なプロセス条件を取得し、内蔵の高速冷却プラズマ（RPC）ジェネレータは、不要な電力オーバーシュートを最小限に抑え、プロセス制御を最大化します。さらに、4500iにはPiezo Tune-and-Lock （PTL）技術が搭載されており、高いアスペクト比の機能で優れたプロセス再現性を実現しています。LAM RESEARCH 4500iは、高度な半導体製造のための最高のエッチング/アッシングツールです。優れた機能と機能により、プロセスの安定性と制御性に優れているため、より短時間で高品質のデバイス製造が可能です。高度なプロセスモニタリングと局所排気システムにより、安全でクリーンな処理が可能です。マルチガス動的供給システムとピエゾチューンアンドロック技術により、4500iは優れたデバイス製造に必須のエッチングおよびアッシングソリューションです。