中古 LAM RESEARCH 4500 #9226300 を販売中

LAM RESEARCH 4500は、半導体ウェーハの等方性および異方性エッチングに使用されるエッチャー/アッシャー装置です。ロボティクスやウェットケミカルプロセスなどの先端技術を取り入れた最先端の機器です。チャンバーサイズは36インチ、出力定格は500ワットで、4500はさまざまな生産環境やエッチング要件で優れた性能を提供するように設計されています。このシステムは、2つのプロセスチャンバーを備えています。ウェーハを等方性エッチング場に配置するエッチングチャンバーです。このユニットは、信頼性の高いエッチングのための安全な環境を提供するだけでなく、in-situ RFエッチングソース、in-situクリーニングマシン、ガスマニホールド、および自動ウェハハンドリングツールなどの他のコンポーネントも提供します。本アセットは、シリコンウェーハやガリウム（GaAs）などの半導体の高性能エッチング用に設計されています。エッチングプロファイルをカスタマイズして、精度、速度、複雑さを最適化できます。自動化されたプロセスと現場のRFエッチソースを使用することで、モデルは処理エンジニアに求められる性能と信頼性を提供します。LAM RESEARCH 4500は、250°C （482°F）から650°C （1202°F）までの温度範囲で動作可能です。また、高度な産業用モーションシステムを使用して正確な結果を提供し、繰り返し可能な性能を提供します。装置には、ウェーハの潜在的な汚染に抵抗するセラミック/金属/プラスチックチャンバーが含まれています。最後に、4500の包括的なプロセス監視システムは、生産環境の信頼性と追跡を提供します。このユニットは、データ収集プロセスを簡素化し、エンジニアと機械間の迅速かつ容易な通信を可能にします。LAM RESEARCH 4500は、半導体ウェーハ用の等方性および異方性エッチング用の高速で正確で信頼性の高いソリューションを提供します。