中古 LAM RESEARCH 4500 #293600180 を販売中

LAM RESEARCH 4500は、精度と精度の高い半導体基板のエッチングパターンを効率的に生成するために設計された高度なエッチング/アスパー装置です。このエッチングシステムは、高度なガス供給ユニットを備えており、SF6、 O2、 C4F6、 NF3、 C3F8など、さまざまなガスをサポートすることができます。また、ロードロックチャンバーとin situクリーニングチャンバー、プラズマソースも内蔵しており、ユーザーは1回の動作サイクルでエッチング操作を行うことができます。このマシンは、現場洗浄、プラズマ活性化、エッチング、表面不動態化など、幅広いプロセス機能を備えています。これは-70°C〜+300°Cの暖房範囲が大きいため、Si、 SiO2、 GaAs、 InPなどの異なる材料に適しています。さらに、温度、RIE（リアクティブイオンエッチング）電力、チャンバー圧力、時間などのエッチングパラメータを細かく制御できるため、アスペクト比を十分に制御した精密エッチング機能を実現できます。4500は、高スループットのロードロックチャンバー設計により、優れたウェーハスループットを提供し、大量生産環境に適しています。このツールは、オンボードの圧力監視資産やオートパージモデルなど、さまざまな安全メカニズムを備えているため、優れた安全性と環境保護を提供します。また、ウエハ検査モジュールと絶縁ノズルを内蔵し、プロセス誘発粒子を低減します。さらに、LAM RESEARCH 4500は豊富なプロセス分析とデータ制御を提供し、ユーザーはエッチング処理を微調整し、リアルタイムで結果を監視することができます。オプションのWi-Fi接続により、リモートから機器にアクセスして制御することができます。また、統合されたタッチスクリーンディスプレイにより、ユーザーはエッチングプロセスと直接対話することができます。これにより、パラメータを素早く簡単に変更して結果を監視し、エンドツーエンドのプロセス効率を向上させることができます。4500は、さまざまな生産環境において信頼性とコスト効率に優れたエッチング/アスパーソリューションを提供します。その高度な設計、プロセス機能、安全機能により、エッチングおよびパッシベーション操作に最適です。