中古 LAM RESEARCH 2300e4 KIYO MCX #9252292 を販売中

LAM RESEARCH 2300e4 KIYO MCX
ID: 9252292
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2006
Metal etcher, 12" 2006 vintage.
LAM RESEARCH 2300e4 KIYO MCXは、シリコンウェーハのエッチングおよびアッシング用に半導体産業における量産用に設計されたマルチチャンバーエッチャー/アッシャーです。ディープエッチングと超微細アッシングのニーズに、信頼性の高い高度に自動化されたソリューションを提供します。KIYO MCXは、効率的なガス使用、高スループット、高いプロセス品質を提供します。KIYO MCXは、高い落下率、ギャップ形成、ステップカバレッジに不可欠な、超微細エッチングおよびアッシング処理を提供するように設計されています。LiPS (Lithography、 Plasma Source)やIMPRIME (Ionized Metal Plate Reactor)などの先端技術を組み込み、エッチング速度を高精度かつ厳密に制御するハイエンドエッチング処理を提供します。KIYO MCXには、新しいアルゴン豊富なF2ケミストリーがあり、プロセスのパフォーマンスと柔軟性を高めています。KIYO MCXは、2つのデュアルチャンバーと1つのシングルチャンバーで構成されています。各デュアルチャンバーは、それぞれエッチングプロセスとアッシングプロセス用に設計されています。これらのデュアルチャンバー間にあるシングルチャンバーは、物理的な洗浄と接着洗浄のために構成されています。KIYO MCXチャンバーは、ICP (Inductively Coupled Plasma)、 Sub TIP (Sub-Thermal Ionization)、外部キャビティソース(ECS)などの最新技術を活用し、優れた性能を発揮します。3つのチャンバーはすべて1つのユニットに統合され、カスタムのモーションコントローラによって中央で管理されます。KIYO MCXは、制御・安全機能も幅広く提供しています。それは内部安全センサーおよび顧客の調節可能な床レベルの緊急停止と形成されます。また、熱衝撃からプロセスを保護するための高度な熱監視および絶縁システムも装備されています。また、KIYO MCXは高効率ガス利用を目的として設計されており、ガス消費量の削減とコスト削減を実現しています。さらに、高度なソフトウェアは、プロセス監視、レシピ実行、分析機能、およびデータロギングシステムを提供します。KIYO MCXエッチング/アッシャーシステムは、半導体業界の量産ニーズに合わせて設計されています。LiPS、 IMPRIME、 Argon-rich F2 Chemistry、 ICP、 Sub TIP、 ECSなどの高度な技術を組み込むことで、非常に高い精度で優れたエッチング/アッシングプロセスを提供することができます。また、大量生産においてプロセス安全に不可欠な制御・安全機能を幅広く提供しています。最後に、その高度なソフトウェアは、プロセスの監視、レシピの実行、分析機能、およびプロセスの効率とコスト削減を最大化するためのデータロギングシステムを提供します。
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