中古 LAM RESEARCH 2300e4 Kiyo EX #293619084 を販売中
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販売された
ID: 293619084
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2012
Poly etcher, 12"
(3) Load ports
SEMI Wafer
Cassette type: 25-Slots
Gas box type: Jetstream
2300 Platform
Chamber type: Versys Kiyo E Series
2300 Versys Kiyo E Series
PTK Chamber
Temperature controlled window
HP Crystal window
Coated ceramic injector
Standard bayonet style injector shield
Gas weldment with coated
Standard injector shield
Enhanced plasma screen
SRC Enhanced grounded liner
Top and side gas feed
TCP Source: Plasma 2000 W
Enhanced TCP Coil support:
Bias match: 1.5 kW HVBP
Electrostatic chuck: EPX ERMZ
ESC Facility plate: Pl with routing
ESC Hose kit: Low temperature
Wafer lift mechanism: Prime movers
Voltage control interface: 1200 V
High bias kit
Single piece QUARTZ edge ring
Turbo pump, 12"
OES2 Endpoint detection
Standard chamber viewport window
Heated foreline clamp cover
Chamber isolation valve: Barrier seal door
Vacuum valve: Viton
Lower isolation valve: Valqua
Chamber manometer
UPC Enhanced
Water control: Passive RF PCW control
PCW Hoses: Chemical resistant
Exhaust duct: Reduced profile
Standard service cover
Pump to TCU, 50 ft
TCU to PM, 100 ft
Interconnect: Pump to PM, 100 ft
TCU to RPDB, 25 ft
Pump to RPDB, 25 ft
Regulated inlet gas panel
Gas system:
Jetstream
Mounting location: Transport module
Window door
Lock-out tag-out manual valve
FIB Facilitization
Facility box:
Top gas connection
Enhanced containment
Regulated with filter regulation
Nickel filter
SST Filter
Future PM: 4 Positions
Jetstream gases of 2302 Kiyo E Series:
Tuning gas
Heated lines position 1 and 2
Gas no / Gas / MFC Size / MFC Model
1 / SiCL4 / 100 SCCM / STEC Z719
2 / CL2 / 500 SCCM / STEC D219
3 / HBr / 500 SCCM / STEC D219
4 / CF4 / 400 SCCM / STEC D219
5 / BCl3 / 200 SCCM / MFC Z719
6 / He / 500 SCCM / STEC D219
7 / CH2F2 / 200 SCCM / STEC D219
8 / Ar / 1000 SCCM / STEC D219
9 / 30%HE/O2 / 50 SCCM / STEC D219
10 / NF3 / 1000 SCCM / STEC D219
11 / N2 / 250 SCCM / STEC D219
12 / SO2 / 200 SCCM / MFC D219
13 / SF6 / 200 SCCM / STEC D219
14 / CHF3 / 200 SCCM / MFC D219
15 / O2 / 500 SCCM / STEC D219
17 / C4F6 / 200 SCCM / MFC D219
ATM:
Front end load port: 3 FOUP BROOKS
Cassette ID: Hermos carrier ID
Factory automation: OHT PIO Sensor
Input buffer station: 25-Slot
CTC Computer storage: Hard Disk Drive (HDD) mirrored
VTM Load lock A and B: Standard
RPDB Subpanel
R-O-G-B Signal tower
Pre-facilities:
PM Peripherals backing pumps: ESR100WN
RPDB Backing pump CB Size: 30 A
TCU CB Size: 30A
TCU YR-8020
2300 Versys Kiyo E Series process module (PM1, PM2, PM3 and PM4): SiCl4, Cl2, HBr, CF4, He, Ar, CH2F2, 30%He/O2, NF3, N2, SO2, SF6, CHF3, O2
Does not include:
Dry pumps
Hard Disk Drive (HDD)
Power supply: 208 AC, 3 Phase
2012 vintage.
LAM RESEARCH 2300e4 Kiyo EXは、半導体デバイス製造向けに設計された高性能エッチャー/アッシャーです。これは、1000°Cまでの温度で、ケイ素、二酸化ケイ素、アルミニウム、タングステンなどの様々な材料をエッチングし、アッシングすることができる堅牢なツールです。2300e4 Kiyo EXは、RFインピーダンスマッチングとあらかじめ設定されたエッチング/アッシュという2つのプライマリ構成で動作します。RFインピーダンスマッチングモードでは、6つの基板タイプを処理でき、高収率、低コストの処理を提供します。高精度で反復可能な結果を生成する無線周波数発生器を搭載しています。また、最適な圧力条件でプロセスガスを維持する統合圧力デバイスを備えています。LAM RESEARCH 2300e4 Kiyo EXは、あらかじめ設定されたエッチング/アッシュモードで、先進的なイオンビーム光学系、多室プラズマ制御システム、炭化ケイ素チャンバーゲートなどの高度な機能を備えています。高度なイオンビーム光学はプロセス制御とプロファイル精度を向上させ、マルチチャンバーのプラズマ制御システムはエッチングと灰のレシピに柔軟性を提供します。さらに、炭化ケイ素チャンバーゲートを使用すると、プラズマ反応を管理し、破片を減らすことができます。2300e4 Kiyo EXは、エッチング/アッシュ機能に加えて、高精度プロファイル測定装置も提供しています。このシステムにより、ユーザーは高解像度でエッチング/アッシュプロファイルを監視できるため、一貫して高品質のプロセスを保証できます。LAM RESEARCH 2300e4 Kiyo EXは、エッチング機能をさらに強化するため、成膜とエッチングの両方に精密な温度制御を可能にする温度コントローラを内蔵しています。また、デジタルデータの記録と保存機能、レシピ最適化のためのプログラマブルコントローラ、ユニットメンテナンス用の自動診断テストスタンドも備えています。2300e4 Kiyo EXは、高品質の半導体デバイスを製造するために設計された、信頼性の高い効率的なエッチャー/アッシャーです。高度なイオンビーム光学および温度制御機能、高精度プロファイル測定機、デジタルデータ記録および保存機能、レシピ最適化のためのプログラマブルコントローラ、およびツールメンテナンス用の自動診断テストスタンドを提供します。LAM RESEARCH 2300e4 Kiyo EXは、堅牢な機能と使いやすさを備え、あらゆる半導体デバイス製造施設に最適です。
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