中古 LAM RESEARCH 2300 #9083803 を販売中
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ID: 9083803
ウェーハサイズ: 8"
ヴィンテージ: 2004
Oxide etcher, 8"
Cass nest plastic, 8"
Wafer shape: SNNF (Semi notch no flat)
(4) Process chambers:
Position 1: 2300 Exelan
Position 2: 2300 Exelan
Position 3: 2300 Exelan
Position 4: 2300 Exelan
Front end load port cassette:
(3) Open cassettes iPX
Backing pumps for TM iPX
User interface option: Side and front monitor UI
Earth leakage breaker ELB
Signal tower
SECS / GEM
Plat from type: Version 2
2300 Exelan options:
Chamber type: 2300 Exelan CFE
Upper electrode heated
ESC Cooling dual zone
1600 L/S EDWARDS Turbo pump, 8"
Endpoint detection optical emission spectroscopy
Chamber isolation valve rocker gate valve
2300 Gas box:
Gas system type: Enhanced gas box II
Std stacking kits: 4 PM stacking kit
Gas line 12 gas configuration
Gas box inlet option: Regulated inlet gas panel
Gas filters: Standard filter
Gas box configuration:
PM1 MFC Type: Unit 1661 metal, digital
Line 1 Ar 1000 sccm
Line 2 O2 50 sccm
Line 3 N2 200 sccm
Line 4 O2 2000 sccm
Line 5 CHF3 100 sccm
Line 6 C4F8 20 sccm
Line 7 CH2F2 50 sccm
Line 8 C4F8 50 sccm
Line 9 CF4 100 sccm
Line 10 NSR70%He/30%O2100 sccm
Line 11 C4F6 20 sccm
Line 12 NSR Xe 300 sccm
Line 13 HeO2 20 sccm (Tuning gas)
PM2 MFC Type: Unit 1661 metal, digital
Line 1 Ar 1000 sccm
Line 2 O2 50 sccm
Line 3 N2 200 sccm
Line 4 O2 2000 sccm
Line 5 CHF3 100 sccm
Line 6 C4F8 20 sccm
Line 7 CH2F2 50 sccm
Line 8 C4F8 50 sccm
Line 9 CF4 100 sccm
Line 10 NSR70%He/30%O2100 sccm
Line 11 C4F6 20 sccm
Line 12 NSR Xe 300 sccm
Line 13 HeO2 20 sccm(Tuning gas)
PM3 MFC Type: Unit 1661 metal, digital
Line 1 Ar 1000 sccm
Line 2 O2 50 sccm
Line 3 N2 200 sccm
Line 4 O2 2000 sccm
Line 5 CHF3 100 sccm
Line 6 C4F8 20 sccm
Line 7 CH2F2 50 sccm
Line 8 C4F8 50 sccm
Line 9 CF4 100 sccm
Line 10 NSR70%He/30%O2100 sccm
Line 11 C4F6 20 sccm
Line 12 NSR Xe 300 sccm
Line 13 HeO2 20 sccm(Tuning gas)
PM4 MFC Type: Unit 1661 metal, digital
Line 1 Ar 1000 sccm
Line 2 O2 50 sccm
Line 3 N2 200 sccm
Line 4 O2 2000 sccm
Line 5 CHF3 100 sccm
Line 6 C4F8 20 sccm
Line 7 CH2F2 50 sccm
Line 8 C4F8 50 sccm
Line 9 CF4 100 sccm
Line 10 NSR70%He/30%O2100 sccm
Line 11 C4F6 20 sccm
Line 12 NSR Xe 300 sccm
Line 13 HeO2 20 sccm (Tuning gas)
2300 Peripherals:
DFC Backing pumps cust supply
DFC TCU Config lam supply: (4) 4080 Plus
Gas scrubber: EBARA GTE-3-0WVT
Power distribution module: RPDB
Dry pumps:
TM EDWARDS iPX 100A
PM1 EBARA AA100W
PM2 EBARA AA100W
PM3 EBARA AA100W
PM4 EBARA AA100W
No SMIF interface
2004 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Exelanは、半導体デバイスの大量生産用に特別に設計された技術的に高度なエッチャーおよびアッシャーです。Exelanは高速でエッチングとアッシングが可能ですが、非常に正確な結果が得られます。そのユニークな半水系化学プロセスは、一貫して均一な構造と表面品質を保証します。この装置は、シリコンウェーハの高スループットエッチングとアッシングを行うことができ、一度に最大3つの200 mm （8インチ）ウェーハを処理することができます。Exelanは、プロセス自動化された操作のための高度なプロセス制御と統合機能を備えています。高精度な光学ホワイトライトシステムにより、エッチングとアッシングを精度と精度で行うことができます。高度なオートメーションマシンは、ローカライズされた柔軟な制御戦略を提供し、さまざまなプロセスパラメータを同時に制御できます。統合されたロボットアームは、繰り返し可能な結果を提供しながら、サイクルタイムを最小限に抑えるのに役立ちます。機械のソフトウェア制御はプロセス制御および統合のcapabilities。tの広い範囲を提供します高精度の光学登録システム、自動安定化制御システム、精密ウエハのオリエンテーションシステムおよび統合されたロボットアームのような変数を含んでいます。このツールには、同様の処理要件を持つアプリケーションにアクセスして再利用できる広範なレシピライブラリが装備されています。Exelanはまた、プロセス、診断、データ分析機能の包括的なスイートを提供しています。このアセットは、自動ウェハローディングとアンロードを備えたプロセスミニロボットを備えています。さらに、このモデルには診断ツールが内蔵されており、エッチングとアッシングのプロセスを監視および分析できます。また、プロセス制御ソフトウェアも提供しており、エンジニアは最適なパフォーマンスと効率のためにプロセスを調整することができます。エクセランのモジュール設計により、窒素入力システム、再循環システム、追加の化学物質供給システムなどの追加機能のカスタマイズが可能になります。このシステムは、さまざまな安全基準および環境基準に準拠しており、さまざまな試験体制でさまざまな安全チェックに合格しています。このユニットは、所有コストの削減と低トータルコストの運用を支援することが証明されています。全体的に、2300 Exelanは高性能のエッチングおよびashing仕事ができる高度機械です。このツールは、時間とコスト効率の高い運用を可能にするため、半導体デバイス製造などの大量生産アプリケーションに最適です。アセットの統合されたプロセス制御およびオートメーション機能は、一貫した再現性のあるパフォーマンスを提供します。また、幅広いプロセス、診断、データ分析機能により、プロセスの最適化と効率性が保証されます。
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