中古 LAM RESEARCH 2300 Versys #9353167 を販売中

LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyoは、今日利用可能な最も先進的なエッチャーとアッシャーの1つです。このツールは、半導体、MEMS、およびLED製造環境において、さまざまなアプリケーションで精密エッチングとアッシングを提供するように設計されています。この装置は、卓越した精度、スピード、再現性を備え、平らなウェーハと輪郭のウェーハの両方を処理することができます。このシステムは、最大直径200mmのウェーハを処理することができ、オペレータの要件に基づいて調整可能な多数の異なるプロセスパラメータを提供します。「Kiyo」は、ローフロー版とハイフロー版の両方で提供され、柔軟性を高めています。ローフローバージョンの流量は毎分2-5リットル、ハイフローバージョンの流量は毎分7-10リットルです。Versys Kiyoのプロセスチャンバーは、安全機能を備えた設計で、優れたプラズマ均一性を備えているため、エッチング公差が厳しく、エッジ精度が向上します。最大圧力200ミリバー（Mbar）、温度範囲15〜40°CのVersys Kiyoは、多種多様なエッチングおよび灰プロセスに対応し、手動プロセス制御と統合プロセス制御機能の両方のオプションを備えています。このユニットには、自動ガスシャットオフ、緊急通気装置、機械の前面にある緊急停止ボタンなど、数多くの安全機能が装備されています。これらの機能は、エッチングおよびアッシング処理中に常にオペレータの安全を確保します。また、Versys Kiyoには液晶ディスプレイ（LCD）タッチスクリーンが付属しており、設定に簡単にアクセスでき、現在のプロセスサイクルを監視したり、プロセス改善のためにデータを取得および分析したりできます。このツールには「Soft Vac」機能も搭載されており、より正確で効率的な安全エッチングとアッシングプロセスを可能にします。全体として、2300 Versys Kiyoは、最も要求の厳しい半導体、MEMS、およびLED生産環境での精密エッチングとアッシングに最適なツールです。高度なプラズマ均一性、数多くの安全機能、信頼性の高いプロセス制御機能を組み合わせることで、優れたエッチングおよびアッシングソリューションとなります。