中古 LAM RESEARCH 2300 Versys #9251504 を販売中

LAM RESEARCH 2300 Versysは、今日の複雑なIC製造プロセスの厳しい要件を満たすように設計されたハイエンドエッチングおよび灰処理装置です。2300 Versysは、より高いスループット、プロセスの柔軟性、およびパフォーマンスの向上を可能にする新しい最先端プロセッサを備えています。LAM RESEARCH 2300 Versysには、高真空ターボ分子ポンプを搭載した両面サセプタアセンブリが搭載されており、急速なポンプダウン時間と大きな基板上のプロセスガスの均一な拡大を提供します。最大ウエハサイズ300mmの大型基板加工が可能で、大量生産に最適な工具です。2300 Versysは、最先端のオートメーションシステムを備えた高度なプロセス制御機能を提供しており、ユーザープログラミング、レシピ形成、パラメータ設定を簡単に行うことができます。このユニットは、エッチング、RIE（リアクティブイオンエッチング）、IBE（イオンビームエッチング）、ウェットエッチング、灰など、幅広いプロセス機能を備えています。この灰の能力は、特許取得済みのマルチゾーン熱酸化物（MTO2）技術に基づいており、大きな基板上で非常に均一で反復可能な酸化物の成長を可能にします。LAM RESEARCH 2300 Versysは、自動制御機に加えて、マルチガス検出器、光放射分光法、半球反射測定などの高度なin-situ監視オプションも提供しています。現場でのモニタリング機能により、プロセスパラメータを正確に測定し、生産品質を確保できます。2300 Versysには、特許取得済みのギャップ充填プロセスやディープエッチプロファイルの改善など、多くのプロセスの強化も含まれています。最も厳しい寸法要件を満たすように設計されており、幅広い耐電性材料および導体材料と互換性があります。このツールは、ライン幅の制御を強化できるPECVD （Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition）プロセスで構成されています。LAM RESEARCH 2300 Versysは、生産歩留まりの向上とスループットの向上を実現するために、エッチングおよび灰アセットをCPVD （Chemical Plasma Vapor Deposition）、 ALD （Atomic Layer Deposition）、ケミカルエッチングおよびコンフォーマルコーティングなどのモジュールと組み合わせて、クラスタツール構成を提供します。このモデルには、自動ロードロックや自動カセットハンドラ、オプションのプロセスサンプル監視やフルウェーハ反射率監視など、いくつかの追加の生産オプションが用意されています。要約すると、2300 Versysは、今日の複雑なIC製造の高い生産およびプロセス要件を満たすように設計された高性能のエッチングおよびアッシュ機器です。高度なプロセス制御機能、スループットの向上、大型基板全体での均一なストイキオメトリー、およびプロセスと生産品質を確保するための幅広い生産オプションとin-situモニタリングオプションを提供します。