中古 LAM RESEARCH 2300 Versys #9044491 を販売中

LAM RESEARCH 2300 Versys
ID: 9044491
Etchers.
LAM RESEARCH 2300 Versysは、エッチングおよびアッシング用途に高い生産性と高度なプロセス柔軟性を提供するように設計されたエッチャー/アッシャーです。2300 Versysは、HotWafer機能を備えたデュアルPocket Load Lockプラットフォーム上に構築され、スループットの遅延を低減し、任意のレシピでより高いスループットを実現します。このシステムには、リアクティブイオンエッチング(RIE)、プラズマイマージョンイオン沈着(PIID)、電子サイクロトロン共鳴(ECR)、キネティックインダクタンス沈着(KID)など、さまざまな用途のための複数のエッチング、クリーン、および灰の技術が付属しています。そのモジュラー設計には、ソース、チャンバー、コントローラ、電源といったエッチング機器に必要なすべての要素が1つのシャーシに組み込まれており、設置とメンテナンスが容易になります。LAM RESEARCH 2300 Versysは、従来のエッチングシステムと比較して、プロセスの柔軟性、所有コストの削減、材料コストの削減も実現します。2300 Versysは、生産アプリケーションと研究アプリケーションの両方で構成可能であり、最適な生産性、稼働時間、再現性を得るためのカスタム構成を可能にします。その信頼性の高い高性能RFおよびマイクロ波発電機は、限られた寿命のメンテナンスを提供するために特別にサイズされています。調節可能なソース/チャンバ絶縁システムは、低電流プラズマ生成をサポートし、柔軟な自動チューニング制御により、迅速かつ正確なプロセス設定を可能にします。さらに、LAM RESEARCH 2300 Versysは、統合されたマスフローコントローラとガスパネルを備えており、プロセスガスのリアルタイム制御と監視を可能にし、高速反応チャンバードアとダストフィルタにより、優れた防塵性と高速ウェハローディング/アンロードを提供します。全体として、2300 Versysはエッチングおよびアッシング用途に高いレベルのパフォーマンスと柔軟性を提供します。その高度な技術と統合システムは、生産環境や研究環境においても高い信頼性とスループットを保証します。
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