中古 LAM RESEARCH 2300 Versys #9036038 を販売中

LAM RESEARCH 2300 Versysは、高度なデバイス技術に高度な処理能力を提供する革新的なエッチャーおよびアッシャーです。Versysプラットフォームは拡張性を考慮して設計されており、技術の進歩と新しいデバイスノードの開発に伴い、製造メーカーは生産能力をアップグレードできます。新しい2300 Versysには、高度な基板搬送ロボットが搭載されており、さまざまなエッチングおよびアッシング処理が可能です。最大容量は300mmウェーハ5本で、処理時間は最大300秒です。また、最先端の高解像度クローズドループローカルエリアスキャナを備えており、すべてのエッチングおよびアッシング操作に究極の精度と精度を提供します。高度なLAM RESEARCH 2300 Versysは、エッチング、アッシング、クライオエッチング処理が可能です。エッチングとアッシングのプロセスは、基板上に設計されたパターンを生成するために材料の層を除去することを含みます。ファブプロセスでは、金属線、トランジスタ、コンデンサなど、さまざまなサイズや形状の特徴をパターン化するためにエッチングとアッシングが使用されます。2300 Versysはクライオエッチングも可能です。このプロセスでは、極端な寒さが不要な材料をエッチングするために使用されます。この冷間エッチング処理は、110nm以下のような極端な精度が必要な技術にとって不可欠です。LAM RESEARCH 2300 Versysはまた、プロセス時間を短縮し、プロセス分配を最適化する高度な技術により、優れた稼働時間と生産性を保証します。Versysシステムは、SiO2やSiNなどの容易な機械誘電体から、金属だけでなく、より硬い機械材料まで、さまざまな材料と互換性があります。これにより、2300 Versysはさまざまなアプリケーションシナリオに適しています。チップデザイナーの観点から、Versysアーキテクチャは膨大な量の柔軟性を可能にし、カスタムレシピを追加してより多くのカスタムパターンを生成することができます。さらに、将来の技術に対応できる柔軟性を備えながら、優れた成果をもたらす実績があります。LAM RESEARCH 2300 Versysは、ハイエンドのプロセス、スケーラビリティ、究極の精度と精度を提供する優れた高度なエッチャーおよびアッシャーです。最新の技術を取り扱い、最高の生産性と品質を確保したい企業に最適なシステムです。