中古 LAM RESEARCH 2300 Versys #9008862 を販売中

LAM RESEARCH 2300 Versys
ID: 9008862
Metal etcher, 12" Install Type: Stand-Alone Application: M1/M2 Al Etch System Software (ver.): 1.7.2sp2HF4-CST-5 Chambers: (2) Metal Etch CH + (2) Ash/Strip CH Factory Interface/Automation: Interface: (3) Carrier Stage (continuous flow operation) Brooks 300mm Load-Ports 25-Slot FOUPs (complies w/SEMI E47.1) Overhead Transport System (OHT) OHT PIO Sensors Wafer ID Reader: No WIDS, Bottom Read Carrier ID Reader: HERMOS RF Tag-Reader Main-Frame (M/F) / Transport Module (TM): Platform Type: Version 2 User Interface-1: Front side, Flat Panel Display User Interface-2: System side, Flat Panel Display GEM/CIM JGJ: Ethernet 100BaseT Status Lamp: (2) R/Y/G/B 1: Front side (FI), Upper-Left 2: Tool side, Upper-Right EMOs: (2) Front, (2) Rear Conditioning Stage: 4-Slot Cooling Station Heated Fore-lines Dual Drop Sub-Panel UPS on System GFI Main CB TM Gas Box: 12-Line Enhanced Gas Box Tool Fab Interlocks: Gas Box Door (Local) Fab Fab Gas Box Iso-Valves Utility Box: Regulators: CDA: SMC AR2500 N2: Veriflo SQ-420E He: Veriflo SQ-Micro Manual Valve: OGD20V-6RM-K / OGD10V-4RM-K (CKD) Pressure Gauge: Bourdon Gauge De-installed by OEM 2006 vintage.
LAM RESEARCH VErsys 2300エッチャー/アッシャーは、半導体業界のエッチングおよび洗浄プロセス用途に最適なハイエンドエッチャーおよびアッシャー装置です。Versys 2300は、エッチングとクリーニングのすべてのニーズを満たすために、圧力、温度、ガスの流れの広い範囲を提供する高度な電源デカップリングプロセスチャンバーを備えています。Versys 2300には、統合されたロードロックチャンバーとリモートプラズマソースがあり、ウェーハの迅速かつ効率的なロードとアンロード、および低温および高温プロセスの両方を使用できます。Versys 2300は、LAMの特許取得済みの熱変調設計により、温度の均一性と再現性を最適に制御できます。この機能により、プロセス制御の精度が向上し、一貫性のある再現性のある結果が保証されるため、業界で最も信頼性の高いエッチング/アッシングシステムの1つになります。Versys 2300には、リモートプラズマ源(RPS)とプラズマトーチシステム(PTS)という2種類のプラズマ源もあります。リモートプラズマソースは、石英ウィンドウを使用してプラズマを含み、より高い電力レベルが可能ですが、プラズマトーチユニットはより信頼性が高く、低い電力レベルでより一貫した結果が得られます。Versys 2300は、SES (Smart Etcher Tool)と呼ばれる高度なプロセスオートメーションマシンも備えています。このアセットにより、オペレータ入力を最小限に抑えたエッチングおよびクリーニングプロセスを完全に自動化でき、ヒューマンエラーのリスクを大幅に低減できます。さらに、モデルは、複数のプロセス要件に対応するために、さまざまなソフトウェアオプションとカスタマイズされたレシピで構成することができます。Versys 2300には、LAMの革新的なAI診断ツールも付属しており、ユーザーは機器やプロセス情報をリアルタイムで監視できます。これにより、ユーザーはプロセスの問題を迅速かつ簡単に特定し、必要に応じて修正を行うことができます。Versys 2300は、半導体業界のあらゆるエッチングおよび洗浄アプリケーションに最適な信頼性と効率性の高い機器です。
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