中古 LAM RESEARCH 2300 Versys #9007779 を販売中
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ID: 9007779
Metal Etcher, 12"
Application: M1/M2 Al Etch
Chambers: (2) Metal Etch CH + (2) Ash/Strip CH
Install Type: Stand-Alone
System Software (ver.): 1.7.2sp2HF4-CST-5
Factory Interface/Automation:
Interface: (3) Carrier Stage (continuous flow operation)
Brooks 300mm Load-Ports
25-Slot FOUPs (complies w/SEMI E47.1)
Overhead Transport System (OHT)
OHT PIO Sensors
Wafer ID Reader: No WIDS, Bottom Read
Carrier ID Reader: HERMOS RF Tag-Reader
Main-Frame (M/F) / Transport Module (TM):
Platform Type: Version 2
User Interface-1: Front side, Flat Panel Display
User Interface-2: System side, Flat Panel Display
GEM/CIM JGJ: Ethernet 100BaseT
Status Lamp: (2) R/Y/G/B
1: Front side (FI), Upper-Left
2: Tool side, Upper-Right
EMOs: (2) Front, (2) Rear
Conditioning Stage: 4-Slot Cooling Station
Heated Fore-lines
Dual Drop Sub-Panel
UPS on System
GFI Main CB
TM Gas Box: 12-Line Enhanced Gas Box
Tool Fab Interlocks:
Gas Box Door (Local) Fab
Fab Gas Box Iso-Valves
Utility Box:
Regulators:
CDA: SMC AR2500
N2: Veriflo SQ-420E
He: Veriflo SQ-Micro
Manual Valve: OGD20V-6RM-K / OGD10V-4RM-K (CKD)
Pressure Gauge: Bourdon Gauge
De-installed
2006 vintage.
LAM RESEARCHシリーズLAM RESEARCH 2300 Versysは、半導体業界のニーズに応えるために設計された、高度なエッチング/アッシング装置です。このシステムは、幅広いプロセスモジュールを備えており、最新の半導体デバイスの製造において重要なエッチングおよびアッシュ処理を行うことができます。2300 Versysには、信頼性が高く、堅牢なプロセスチャンバーとインテリジェントコントロールが装備されています。このプロセス部屋は密封され、エッチングおよびasching材料のためのきれいで、純粋な環境を保障するために外的な大気への露出がありません。さらに、窒素配管ユニットを内蔵しており、チャンバー全体にプロセスガスの亜音波分布を可能にし、材料の均一な蒸着を実現しています。LAM RESEARCH 2300 Versysの高度なリモートプラズマソースとリアクティブイオンエッチング機能により、エッチング速度、パターニング、エッチングサイズ、均一性を高精度に制御し、負荷と除去に抵抗します。さらに、マルチチャンバー避難およびバックフィル機能により、エッチング副産物を完全に封じ込め、汚染を低減することができます。さらに、機械の自動化されたプロセス制御機能により、手動チューニングなしで迅速なセットアップと切り替えが可能です。さらに、包括的なプロセス監視と診断機能により、プロセスの歩留まりと品質を最適化し、信頼性と可用性を向上させることができます。さらに、2300 Versysの高度なプロセスコントロールコンピュータ（APCC）は、プロセスレシピパラメータと結果の完全な追跡とロギングを可能にし、リアルタイムのデータ取得と操作機能を提供します。APCCには統合された電源装置もあり、メインフレームには多数のプロセスツールとのインタフェースに対応するための多種多様なモジュールがあります。結論として、LAM RESEARCH 2300 Versysは高度なプロセス制御と監視機能を備えた高度なエッチング/アッチングツールです。この資産は、信頼性が高く堅牢なプロセスチャンバーとインテリジェントな制御により、効率的で信頼性の高いエッチングとアッシングを提供します。さらに、この汎用性の高いプラットフォームは、多くの生産ツールを強化し、最新の半導体生産ニーズに最適です。
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