中古 LAM RESEARCH 2300 Versys #78825 を販売中

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ID: 78825
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2005
Poly etch / microwave strip system, 12" Install Type: Thru-the-wall (TTW) CE Marked Protocol: FEOL System SW: 1.7.1-SP3-HF5 Mainframe Type: V2.0 Cassette Interface: (3) Brooks 300mm FOUP Load-ports Brooks Mag 7 Robot User Interface: Side/Front OES: Ocean Optics Status Lamp (RYGB) Side/Front PM3: 2300 Kiyo45 Poly Etch TMP Pump: Edwards STP-XA2703CV RF PS (Top): AE Apex 1513, 13.56MHz (1500W max) RF PS (Btm): AE Apex 1513, 13.56MHz (1500W max) Gas Box: Unit 8561 MFCs SICL4, CL2, SF6, CHF3, H2, NF3, HBR, HBR, CH2F2, CF4, O2, O2, N2, CHF3, Ar, He PM4: 2300 Mwave Strip Mwave PS: Astex AX2630LRC3-S Mwave Match: MKS V0DMB-26565 Gas Box: Unit 1661 MFCs N2 (1000), O2 (5000), CF4 (100), H2O (3000) Chiller (PM3): Noah 3500 POU, BTM: HT200, PSC-8800 Cntrl Pumps: Not all Pumps may be present Main AC Power Dist. Box (Wall/Unistrut mount) Power Requirements: 208V, 272A, 3-PH, 3-wire+Gnd, 50/60Hz Can be inspected 2005 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo 45は、高度なエッチング組み立て要件の要求に応えるように設計された高度なエッチング・アセンブラ・ソリューションです。この製品は、コストを削減しながら、より高いレベルのパフォーマンス、精度、および歩留まりを容易にします。このエッチャー/アッシャーは、業界をリードする指向性プラズマエッチング(DPE)技術を使用して、優れたエッチング精度と均一性、および高密度デバイス機能アセンブリを提供します。LAM RESEARCH 2300 VERSYS KIYO45は、DPE機能を備えた42のプロセスチャンバーを提供し、300以上のプロセスレシピを統合できます。各チャンバには、蒸着、エッチング、アニールモジュール、および12個の高分解能質量分析計が供給されます。各チャンバーには4インチ×5。2インチ(200mm)×6。5インチ(500mm)の窓があり、優れた光学アクセスと大きなウェハエリアを提供します。このチャンバーは優れた光学品質を有しており、優れたオーバーレイ精度を可能にし、低いチャンバの背景圧力と高い供給フローを組み合わせることで、エッチングプロセスの品質を向上させます。2300 Versys Kiyo 45は、スループットを最適化するように設計されており、1時間あたり最大450個のウェーハを処理できます。これは、大規模なバッチ製造に繰り返し可能なエッチプロファイルを提供することができ、DPE技術により高度なプロセスレシピの柔軟性を持ち、より効率的なプロセス統合を可能にします。2300 VERSYS KIYO45は、本番環境での使用を想定して設計されており、安全で安全な操作が可能です。統合されたプロセス制御システム、LEDリフト可能なサブストラクチャー、自動ウェーハおよびカセットフィーダ、フェイルセーフプロセスにより、ウェーハの最大歩留まりを保証し、メンテナンス時間を最小限に抑えます。また、生産要件の変更にも柔軟に対応できます。LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo 45は、チップ製造および包装に最適で、優れた精度と歩留まり、高品質と再現性を提供します。この高度なシステムは、複雑なデバイスのエッチングと組み立てに優れたソリューションを提供し、生産全体のコストを削減します。
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