中古 LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo #9359216 を販売中
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販売された
ID: 9359216
ウェーハサイズ: 12"
Etcher, 12"
(3) Process chambers
V2 Platform
Transfer chamber:
BROOKS AUTOMATION Transfer robot
Transfer robot ARM
(6) Rocker valves
TM Pressure gauge
MKS 640 TM Pressure control
Loadlock pressure gauge (Hasting gauge)
VAT Slit door
TM Super slot board
Airlock cover
DA Sensor
Etch chambers PM2/PM3:
2300 Kiyo, 2005 vintage
Pressure gauges:
E28B-30584
(2) 625A-14059
65048-JH52 Pendulum valve
ATH2300M Turbo pump
Apex 1513 TCP RF Generator, P/N: 660-032596-013
Apex 1513 Bias RF Generator, P/N: 660-032596-014
RF Matches:
TCP, P/N: 832-034908-009
Bias, P/N: 832-038915-001
ESC, P/N: 839-019090-328
Missing process kits:
Top edge ring
Bottom edge ring
Wall liner
649A-14943 Back He UPS
ESC Power supply
VME Assembly
Foreline assembly
OES
Luxtron
Etch chamber PM4:
2300 Kiyo Chamber
Pressure gauges:
E28B-30584
(2) 625A-14059
65048-JH52 Pendulum valve
ATH 2300M Turbo pump
Apex 1513 TCP RF Generator, P/N: 660-032596-013
Apex 1513 Bias RF Generator, P/N: 660-032596-014
RF Matches:
TCP, P/N: 832-034908-009
Bias, P/N: 832-038915-001
ESC, P/N: 839-019090-328
Missing process kits:
Top edge ring
Bottom edge ring
Quartz injector
Wall liner
649A-14943 Back He UPS
ESC Power supply
VME Assembly
Foreline assembly
OES
Luxtron
(3) Gas panels:
PM2:
IGS Gas panel
12-Stick gas channels
SEC-Z300 Mass Flow Controllers (MFC)
PM3/PM4:
IGS Gas panel
16-Stick gas channels
SEC-Z300 Mass Flow Controllers (MFC)
Gases for PM2/PM3/PM4:
Gases / Size
CL2 / 200 SCCM
HBR / 50 SCCM
CF4 / 200 SCCM
O2 / 20 SCCM
O2 / 200 SCCM
HE / 500 SCCM
SF6 / 200 SCCM
CH4 / 50 SCCM
HBR / 500 SCCM
CHF3 / 200 SCCM
N2 / 100 SCCM
AR / 500 SCCM
Delivery and pre-charge gas line
GIB Line and FIB cover
Gas box cover.
LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo etcher/asherは、半導体プロセス機器のリーディングサプライヤーであるLAM RESEARCHの最先端エッチング/アッシュツールの最新製品です。高効率で高精度な寸法制御と高精度表面を再現できるハイスループット機器として設計されています。高度で多層のエッチング/灰アプリケーションを含むさまざまなプロセスに最適です。Versys Kiyoは、高度なRF技術を活用し、最高精度のエッチング/アッシュプロセスを提供しています。最先端のプロセス制御と診断により、優れたパフォーマンスと信頼性を提供し、優れたデバイス歩留まりをもたらし、より高いプロセス・スループットを実現します。このツールの高度な温度制御技術は、高精度と再現性を保証します。Versys Kiyoは、効率的で構成可能なウェーハ転送システムと20ステーションクラスタツールカセットローダーを備えているため、ウェーハ処理機能も設計において重要な利点を提供します。これにより、あらゆるエッチング/アッシュツールにとって重要な機能であるウェーハの高速で信頼性の高いロードとアンロードが保証されます。このユニットはまた、プログラム可能な電力と周波数機能を備えた柔軟性を提供し、細線、超薄線、その他の複雑な形状など、さまざまなデバイスタイプに合わせてプロセスをカスタマイズできます。さらに、パルスパワー、リニアパワーランプ、プログラマブル波形形状など、最先端のRFパワー機能を備えており、エッチング/アッシュプロセスの柔軟性をさらに高めています。Versys Kiyo etcher/Asherは、最高レベルの機械精度とトレーサビリティを提供するために、統合された計測パッケージと高度な表面イメージング技術を備えています。これらの機能は、プロセス制御と再現性を最大限に高め、ウェーハに可能な限り最高のイメージング精度と解像度を提供するように設計されています。最後に、Versys Kiyo etcher/Asherは、運用コストが低いように設計されており、デバイスメーカーとエンドユーザーの両方にとってコスト削減を最大化するのに役立ちます。洗練されたユーザーフレンドリーな操作により、オペレータはVersys Kiyoの能力をすばやく理解して活用することができ、セットアップおよびオペレータトレーニングに投資されるリソースのコストを削減できます。全体として、2300 Versys Kiyo etcher/Asherは、高度なエッチング性能、高いウェーハスループット、構成性、および低い運用コストの優れた組み合わせを提供します。これにより、さまざまな複雑なエッチング/灰プロセスに理想的なツールとなります。
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