中古 LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo 45 #9386658 を販売中

LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45は、エッチングおよびアッシングプロセスの精度を考慮して設計された高度なエッチャー/アッシャープラットフォームです。この機器は、お客様の特定のニーズに合わせてカスタマイズできるハードウェアとソフトウェアのユニークな組み合わせを提供します。ONTRAK Kiyo 45は、エッチング速度操作の精度と高度なソフトウェア機能を組み合わせ、他のシステムよりも効率的なエッチング/アッシング操作を可能にします。LAM RESEARCH Kiyo 45は、密閉された真空チャンバーを使用しており、オペレータとサンプルの安全性を維持するだけでなく、一貫した再現性のある結果を得るための優れたエッチング速度制御を提供します。チャンバーの容積は約11リットルで、プロセス圧力は最大10 Torr以上の大気圧から調整できます。また、Kiyo 45は避難率が低いため、頻繁なチャンバーの通気が不要になり、ダウンタイムとコストの削減に役立ちます。LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45には、使いやすく直感的な制御システムにさまざまなエッチングとアッシングのレシピが含まれています。このユニットは、お客様のニーズに合わせてカスタマイズでき、効果的なエッチング/アッシュプロセスを容易に作成できます。迅速なレシピ設定を可能にし、均一なエッチング速度制御を可能にし、タイトな処理窓を備えた指向性の高い材料の処理に最適です。ONTRAK Kiyo 45マシンは、サンプルトラッキングとデータ記録のための高度なソフトウェアも備えており、お客様は各エッチング/灰プロセスに詳細な情報を保存することができます。このデータは、可能性のあるエッチングまたはアッシングの問題を診断し、エッチング率を監視し、品質結果を繰り返すために使用できます。データキャプチャにより、お客様は規制遵守のためのプロセスと製品トレーサビリティを実装することもできます。LAM RESEARCH Kiyo 45ツールは非常にユーザーフレンドリーに設計されているため、初めてのユーザーでも素早くアセットの操作を学ぶことができます。直感的なグラフィカルユーザーインターフェイスは、すべてのエッチングおよびアッシングプロセスの概要を示し、新しいユーザーの学習曲線を減らし、適切なエッチング/アッシュプロセスを簡単に見つけることができます。Kiyo 45は、信頼性の高いハードウェアとソフトウェアにより、処理能力を向上させ、無駄を削減し、全体的なコスト効率を向上させる機能を備えた、パワフルで汎用性の高いエッチング/アッシングプラットフォームを提供します。最大3,000nm/minのエッチング速度範囲と10 Torrの低真空圧により、廃棄物を最小限に抑えてより詳細で正確な結果を得ることができるため、LAM RESEARCH/ONTRAK Kiyo 45はエッチング/灰の作業において高度で費用対効果の高いツールとなります。