中古 LAM RESEARCH 2300 V2 #293777560 を販売中

LAM RESEARCH 2300 V2
ID: 293777560
Plasma processing system (3) Load ports (4) Kiyo CX Chambers (4) Kiyo MX Chambers (3) Wafer Load port modules Transfer chamber Robots ATM Robot with effectors Effector with effectors VTM Robot N2 / Purge vent TM control Communication protocol (RS232, LON).
LAM RESEARCH 2300 V2は、電気回路やエッチングに敏感な材料をパターン化するために基板から材料を除去するために使用される高性能エッチャー/アッシャーです。エッチャー/アッシャーは、比較的安全なものから腐食性の高いものまでの化学物質を混合して動作させることができ、2〜200 mmまでの幅広いウエハサイズを処理することができます。このマシンはまた、再現可能なプロセスに自動基板制御と安定した高周波モジュール性能を提供します。その設計は、基板全体に一貫した均一なフラックス密度を提供するために正確に整列することができる堅牢なデュオポールソースを備えています。2300 V2の高度な処理能力は、高性能RFジェネレータ、マルチゾーンガス分布、および適応プロセスシステムによって有効になります。この機械は、HF、 O2F2、 SF6、 Cl2などのさまざまなプロセスガス、ならびにリアクタントガス混合物で動作するため、幅広いエッチング速度およびウェーハサイズのエッチングおよびアッシング用途に適しています。マルチゾーンガス分布は、均一でありながら現実的な異方性エッチングプロファイルを保証します。一方、大型チャンバーは、プロセス時間と総厚さの変化に対して安定した環境を提供するように設計されています。LAM RESEARCH 2300 V2は使いやすいタッチスクリーンインターフェイスを備えており、ユーザーはエッチャー/アッシャーの操作を迅速に管理および監視できます。大型の明るいコントロールパネルには、反応範囲や非流動時などの動作パラメータが表示され、迅速な診断と潜在的なパターン欠陥の防止が可能です。また、リモートで監視および調整することができ、お客様はプロセスの一貫性を維持することができます。高度なプロセス保護システムにより、プラズマの状態が最適化され、周辺地域への損傷を最小限に抑えることができます。全体として、2300 V2は、強力で信頼性の高い処理能力を顧客に提供するように設計された高度なエッチャー/アッシャーであり、幅広いエッチングおよびエッチング/アッシング用途に自信を持って対応できます。
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