中古 LAM RESEARCH 2300 V2 #293595429 を販売中
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ID: 293595429
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2002
Plasma processing system, 12"
Etch platform
(4) Exelan Chambers
(4) Gas boxes
Remote power distribution box
3LP EFEM
Vacuum transfer module
Control rack
BROOKS AUTOMATION ATR8 ATM Robot
BROOKS AUTOMATION MAG7 VTM Robot
(2) FOUPs
Cassette type: 25
No conditioning station
IPX / EPX Pump for TM
Side monitor user interface
Stainless wafer pads
No UPS
No ELB
R-O-G-B Signal tower
ESC Wafer clamping mechanism
ESC Power supply
ESC Hose kit
ESC Barbed facility plate
Wafer life mechanism: Direct drive
O-rings: Fluorosilicon / Viton
ATH 1600 M Turbo pump
Optical emission spectroscopy
Chemraz gate valve
2002 vintage.
LAM RESEARCH 2300 V2 Asherは、特定の材料のドライエッチング用に設計された、完全に自動化された高精度のエッチャー/アッシャーです。デバイス製造、半導体デバイス加工、MEMS製造、回路基板製作、その他大量生産プロセスなどの用途に最適です。最大300 µmのエッチング深度に達することができ、±0.05µmのエッチング精度を持ち、3000°F (1650°C)までの様々な温度で動作することができます。2300 V2 Asherは、最適なプロセス制御のための真空システムを備えたブローバック再循環ウェーハカセット駆動装置とクローズドループプロセスチャンバーを含む洗練されたコントローラによって駆動されます。プロセスチャンバーには2つの独立したエッチングシステムがあり、1つ目は基板エッチング用、2つ目は裏面エッチング用です。また、オーバーヘッドロボットロケータとオートフォーカスソフトウェアも含まれています。ウェーハカセットドライブユニットは、ウェーハの効率的なロード/アンロードを可能にし、スループットを向上させます。LAM RESEARCH 2300 V2には、緊急停止ボタン、インターロック保護、発煙検出およびろ過機、有害ガスやエアロゾルがプロセスチャンバーから逃げるのを防ぐ強制空気パージなど、多くの安全機能が装備されています。これらの機能は、エッチャーの信頼性と安全な動作を保証します。2300 V2は、プロセス制御とソフトウェアを統合した完全なエッチングソリューションを提供します。これには、プロセスツールとパラメータコントロールの強力なセットが含まれており、必要に応じてプログラム、監視、および調整することができます。これにより、ユーザーは最大限の精度とトレーサビリティでプロセスを最適化できます。このツールはまた、オープンソースのスクリプト言語を介してさまざまなカスタマイズされたスクリプトに対応するように設計されており、ユーザーは特定のニーズに合わせてアセットを変更することができます。結論として、LAM RESEARCH 2300 V2は、幅広い機能と機能を備えた高度な自動エッチャー/アッシャーです。高度なプロセス制御と安全機能、オープンソーススクリプティング言語により、信頼性と正確な操作が保証されます。その温度性能、エッチング精度、スループットにより、量産やその他の高精度な製造プロセスに最適です。
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