中古 LAM RESEARCH 2300 Kiyo #174756 を販売中
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販売された
ID: 174756
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2006
Metal dry etch system, 12"
Type of Loadport: SMIF
Number of Process Chamber: (2) Metal Etch & (2) MWAVE STRPR
Configuration of SMIF:
Signal Tower: 3-colors
Number of Loadport: 3
Parts No. of Loadport: 799-901175-004
Number of ATM Robot: 1
Parts No. of ATM Robot: 121668
Buffer Station: 25 slots, 2 Buffer Station
Aligner: 1 Aligner
Configuration of Transfer Chamber
Number of Loadlock: 2 LL / 4 Slot Cool Chamber
Model of Transfer Robot: Magnatran7 / Borrks
Parts No. of Lock Valve: 853-007859-005 / 4ea
TM Pressure Gauge: HPS Series907 / MKS
TM Pressure Control: MKS Series640
LL Pressure Gauge: HASTING
Configuration of Etch Chamber:
PM2:
Model of Chamber: 2300 Metal
Year of Construction: 2005
Model of Pressure Gauge: MKS, 0.1Torr
Model of Throttle Gate Valve: 65048-PH52-ADR1 VAT
Model of Turbo Pump: ATH2300M Alcatel
Model of TCP RF Generator: RFG / AE
Model of Bias RF Generator: APEX1513 / AE
Configuration of Etch Chamber:
PM3:
Model of Chamber: 2300 Metal
Year of Construction: 2005
Model of Pressure Gauge: MKS, 0.1Torr
Model of Throttle Gate Valve: 65048-PH52-ADR1 VAT
Model of Turbo Pump: ATH2300M Alcatel
Model of TCP RF Generator: RFG / AE
Model of Bias RF Generator: APEX1513 / AE
Configuration of MW Chamber:
PM1:
Model of Chamber: 2300 MWAVE STRPR
Year of Construction: 04-2006
Model of Pressure Gauge: MKS, Dual range
Model of Throttle Gate Valve: MKA, 253B-24836
Model of Vaporizer: MKS, WODMB-23398
Model of MW Generator: ASTEX, FI120160-3
Configuration of MFC: O2 5slm, N2 1slm
Configuration of MW Chamber:
PM4:
Model of Chamber: 2300 MWAVE STRPR
Year of Construction: 04-2006
Model of Pressure Gauge: MKS, Dual range
Model of Throttle Gate Valve: MKA, 253B-24836
Model of Vaporizer: MKS, WODMB-23398
Model of MW Generator: ASTEX, FI120160-3
Configuration of MFC: O2 5slm, N2 1slm
Configuration of Gas Panel, Etch Chamber:
Type of Gas Panel: IGS Bolck Type
No of Gas Channel: 8 Channel
Model of MFC: UFG8561
PM2:
BCL3 300sccm
N2 50sccm
Ar 500sccm
O2 1slm
CH4 50sccm
SF6 200sccm
Cl2 300sccm
CHF3 50sccm
PM3:
BCL3 301sccm
N2 51sccm
Ar 501sccm
O2 2slm
CH4 51sccm
SF6 201sccm
Cl2 301sccm
CHF3 51sccm
Gas Box 1.25C Seal Type
TMP Axiden ATH2300M
Micro Wave Power Gen MKS FI20160-3
RF Generator AE APEX-1513 and AE RFDS-1213
Chiller Unisem RCS 2500A
Power: 208VAC 3ph 4Wires 400AMPS 50/60Hz
2006 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Kiyoは、精度、信頼性、柔軟性を追求した画期的なエッチャー/アッシャー装置です。この高度なエッチャー/アッシャーシステムは、さまざまなサイズと構成のデバイスをサポートするように設計されています。そのアーキテクチャは、幅広い基板材料のエッチングとアッシング時に正確なプロセス制御と再現性を可能にします。2300 Kiyoユニットは、インテリジェントアルゴリズムを使用して、基板タイプごとに最適なエッチングおよびアッシングパラメータを計算し、毎回一貫した結果を保証します。化学機械平面化（CMP）、化学機械研磨（CMP）、化学エッチング（ISOエッチング）、ディープリアクティブイオンエッチング（DRIE）、リアクティブイオンエッチング（RIE）プロセスを実行するように設計されています。さらに、機械は精密裏面洗浄が可能です。LAM RESEARCH 2300 Kiyoツールには、ガスフロー解析機能、圧力範囲の温度制御、サセプタチューニング、基板温度制御モードなどの高度な機能が搭載されています。これらの機能により、オペレータはアセットをカスタマイズして調整し、所望のエッチングとアッシングの結果を得ることができます。さらに、統合されたスマートプロセスコントロールにより、関連するプロセスパラメータの自動追跡と調整が可能になり、最終的に再現可能な結果が得られます。2300 Kiyo機器には、簡単なシステム制御とデータ収集のための直感的なソフトウェアも付属しています。ユニットのGUIとソフトウェアは、ユーザーに完全なエッチングとアッシング環境を提供し、再現性と信頼性の高いプロセス性能を実現します。このマシンはまた、ユーザーが直接、マルチサイト接続を介してリアルタイムでプロセスデータを監視および分析することができ、ユーザーは情報に基づいた意思決定を迅速に行うことができます。全体的に、LAM RESEARCH 2300 Kiyo etcher/Asherツールは、幅広い基板のエッチングとアッシングに比類のない信頼性と性能を提供します。その高度な機能と直感的なソフトウェアは、簡単で効率的なユーザーエクスペリエンスを提供し、ユーザーは毎回反復可能で一貫した結果を達成することができます。2300 Kiyoアセットは、これらの機能と機能を組み合わせることで、半導体デバイス製造のための包括的なエッチングおよびアッシングソリューションを提供します。
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