中古 LAM RESEARCH 2300 KIYO METAL(EFEM/TM) #9134009 を販売中

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ID: 9134009
ウェーハサイズ: 12"
ヴィンテージ: 2006
Etcher, 12" EFEM / TM Configuration of SMIF Signal tower: (3)colors Number of Loadport: Missing Parts no. of ATM robot: 151864 Buffer station: 25 slots, 1 Buffer station ATM robot (1)Aligner Configuration of transfer chamber Number of loadlock: 2 LL / 4 Slot cool chamber Model of transfer robot: Megatran7 / Brooks Parts no. of rocker valve: 853-007859-9223 TM Pressure gauge: HPS Series907 / MKS TM Pressure control: MKS Series 640 LL Pressure gauge: Hasting Configuration of etch chamber Missing champer: PM2, PM3 Configuration of MW chamber Missing champer: PM1, PM4 Configuration of gas panel, etch chamber Missing gas panel: PM2, PM3 Power: 208VAC 3ph 400AMPS 50/60Hz 2006 vintage.
LAM RESEARCH 2300 KIYO Metal (EFEM/TM)は、半導体デバイス製造に使用される次世代エッチャーおよびアッシャーです。このツールは、高速プロトタイピング、プロセス開発、高度なデバイス機能の生産を可能にするように設計されています。高度なエッチフロントコントロールと高い選択性を備えた2300 KIYO TMは、最高レベルの高精度ガスフェーズエッチングとアッシャーを提供します。2300 KIYOは、シリコン、石英、ガラス、金属など様々な基材に使用できます。このツールは、基本的なトレンチエッチングと深穴エッチパラメータをサポートすることができます。深穴エッチング機能によりサブミクロン構造の加工が可能であり、浅いトレンチエッチング機能により極薄層の形成が可能です。このツールには、特定のアプリケーションのエッチング条件を微調整するマルチゾーン温度チューニングやLP-RF技術などの高度な機能も装備されています。2300 KIYO TMは、独自の高周波RFジェネレータ、イオン源の電源、リニアイオンガイド機器、真空チャンバーを備えています。このツールは、1と2の両面ウェーハ、および複数のエッチングおよびアッシャーツールのサポートも提供します。このシステムには、迅速で信頼性の高いプロセス制御を保証する最先端のオートメーションコントローラが含まれています。2300 KIYOはまた、プログラマブル静電チャックを内蔵しており、プロセスの歩留まりを向上させます。また、ガスパネルと真空チャンバーを内蔵しており、ユニットの遠隔操作を可能にします。このマシンは、高い選択性とエッチングレートの向上を実現するように設計されており、トーラーの合計エッチングレートは最大5E10です。このツールには、一貫したエッチングと高スループットを保証する自動ウェーハトラッキングツールも含まれています。LAM RESEARCH 2300 KIYOは、ラピッドプロトタイピング、プロセス開発、高度なデバイス機能の生産を可能にする強力なエッチャーおよびアッシャーです。その高度な機能と機能により、半導体業界のデバイス製造に最適です。
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