中古 LAM RESEARCH 2300 e5 Kiyo #9409252 を販売中
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ID: 9409252
Poly etchers
Cassette, 12"
Chambers:
(2) KIYO45
(2) KIYO EX
Stripper
Platform type: E5
EFEM:
(3) TDK TAS300 Loadport, P/N: S2096-76
KAWASAKI 3NT510B-A002 ATM Robot
BROOKS AUTOMATION 799-058309-003 ATM Robot
BROOKS AUTOMATION 196635 TM Robot, P/N: 401600-594-0001
EDWARD EPX180N IPump, P/N: A419-42-212
(5) GE 605-109114-001 CPUs
(5) 605-707109-012 VIOPs
(5) ENGENUITY 810-046015-009
(2) 853-031727-007 Temperature control units
(4) 810-495659-304 ESC Power supplies
(4) 685-801852-015 OES
VoDM
MKS Revolution III remote plasma source, P/N: 685-045803R034
(4) ESC, P/N: 839-019090-374
Gas configuration:
Gas box type: IGS
(18) Gas lines
MFC:
HORIBA SEC-Z719MGX
HORIBA SEC2719JX
HORIBA D219-SCT
SAM 2480G1
(3) MKS He UPCs
Strip gas:
(3) HORIBA SEC-Z719MGX
Vacuum gauge:
(3) MKS E58B-31775 Process vacuum gauges, 0.1 Torr
(3) MKS E28B-30200 Chamber vacuum gauges, 1 Torr
(2) MKS B28D-30518 Fore line vacuum gauges, 10 Torr
MKS 28PS0063 TM Vacuum gauge, P/N: 109070019CE
MKS 901P-81050-0070 Airkock1 vacuum gauge
MKS 901P-81050-0070 Airlock2 vacuum gauge
ACATEL ATH2800M Turbo pump
ACATEL Mag Power Turbo pump controller
(2) EDWARD STP-XA2703CV Turbo pumps
(2) EDWARD SCU-1600 Turbo pump controllers
BIAS RF Generator, P/N: 660-063437R003
TCP RF Generator
(2) BIAS RF Generators
(2) TCP RF Generators, P/N: 660-088888-002
(4) BIAS RF Matchers, P/N: 832-038915-001
(4) TCP RF Matchers, P/N: 835-043759-004
(4) BIAS RF Cables
(4) TCP RF Cables.
LAM RESEARCH 2300 e5 Kiyoは、シリコンウェーハを含むデバイス基板の超低温処理に特化した先進的なエッチングおよびアッシュツールです。2300 e5 Kiyoは、高度なプラズマ物理と機器工学を使用して、エッチングとアッシング工程で10°C以下の温度を達成することができます。これにより、エッチング結果をより正確に制御できるため、デバイス設計者は製造前に基板の故障をより正確にモデル化し、予測することができます。LAM RESEARCH 2300 e5 Kiyoは、正確なエッチングを作成するために、さまざまな技術を取り入れています。ガスとプラズマ配送システムを組み合わせることで、プロセス環境を正確に制御することができ、基板の材料特性が変更されないようにします。2300 e5 Kiyoは独自の高周波リニアプラズマ源を利用して、原点での高エネルギーイオン爆撃を実現し、非常に高い純度と精度でエッチングと灰を提供します。さらに、LAM RESEARCH 2300 e5 Kiyoの高度なプログラミング機能は非常に汎用性が高く、エッチング、アッシング、沈着、金属化など幅広いプロセスで使用できます。2300 e5 Kiyoはまた、過圧時の自動ガスシャットオフ、過電流時の自動シャットオフ、プロセス環境を一貫して監視するための統合圧力監視システムなど、さまざまな安全機能を備えています。LAM RESEARCH 2300 e5 Kiyoは、優れた処理能力に加え、高度なロボティクスを活用することでコスト削減と生産性の向上を実現し、連続的なノンストップバッチ処理が可能です。この機能により、ユーザーはより多くのデバイスをより短時間で処理することができ、収率が高くなり、納期が短縮されます。全体として、2300 e5 Kiyoは高度なエッチャーとアッシャーで、超低温プロセスの範囲で非常に正確な結果を提供するように設計されています。LAM RESEARCH 2300 e5 Kiyoは、先進的なプラズマ物理学、機器工学、ロボット工学の組み合わせにより、デバイス処理と製造のための強力で信頼性の高いツールです。
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