中古 KEM / KOKUSAI Lambda 200C #293643017 を販売中

KEM/KOKUSAI Lambda 200Cは、半導体やフラットパネル材料など幅広い用途に最適なエッチャー/アッシャーです。この機械は、シリコンからガラスまでのさまざまな材料をエッチングまたは灰に高電圧と電流を使用します。KEM Lambda 200Cは、基板ホルダー、プラズマチャンバー、プロセス制御ユニットを使用してプロセスパラメータを制御します。制御ユニットにより、オペレータはRFパワーレベル、周波数、バイアスの微調整を可能にし、プロセスを正確に制御することができます。基板ホルダーは、厚さが8インチ（20cm）、温度が-60oC （-75oF）までの基板に対応できます。様々な基材やサイズをサポートするために、さまざまなホルダー構成が用意されています。プラズマチャンバーは、水冷チャンバーヘッドと電極を備えたステンレススチールチャンバーで構成され、真空密閉石英窓を備えています。低温プロセス用に設計されており、基板を他のプロセスよりも高い温度にさらすことができます。プロセスコントロールユニットは直感的で使いやすく、RFパワー、周波数、バイアス、ガスフローなどのパラメータを簡単に選択できます。それはまたオペレータが望ましい結果を達成するためにプロセスパラメータを調節することを可能にします。プロセス制御ユニットは、自動化されたレポート作成も可能で、オペレータはデータを保存し、エッチング/アッシュプロセスの結果を監視することができます。KOKUSAI Lambda 200Cは、4インチ（10cm）までの基板洗浄が可能で、ほとんどの半導体およびフラットパネル材料の仕様に合わせてカスタマイズ可能です。直感的なインターフェイスと組み込みの安全機能を備えたLambda 200Cは、あらゆるエッチング/アッシングプロセスに最適なソリューションです。