中古 HITACHI M 8170 XT #293774673 を販売中

HITACHI M 8170 XTは、高度な製造環境における半導体ウェーハの高精度、高スループット処理用に設計された最先端のエッチャー/アッシャー装置です。この洗練されたツールは、革新的な技術と高度な機能を組み合わせて、優れた性能と信頼性を半導体製造プロセスに提供します。HITACHI M 8170XTシステムの中心にはデュアルモード機能があり、優れた精度と制御でエッチングとアッシングの両方を行うことができます。このユニットには、複数のガス噴射チャネル、高度なプラズマ生成技術、およびさまざまなアプリケーションに幅広いプロセス機能を提供するための高度な構成可能なチャンバー設計が装備されています。M8170 XTの主な特徴の1つは、プロセスガスの流量と比率を正確に制御し、望ましいエッチングまたはアッシング結果を達成する高度なガス供給機です。フッ素系、塩素系、酸素系など様々なガスに対応できるため、プロセス開発や最適化の柔軟性が得られます。また、HITACHI M8170 XTは、特定のプロセス要件に合わせてカスタマイズされたプロセス条件とチャンバー形状を可能にする、高度に構成可能なチャンバー設計を備えています。このチャンバーは、エッチングとアッシングプロセス用の個別のセクションを備えたデュアルモード動作を備えており、独立したプロセスの最適化と制御を可能にします。プラズマ生成において、M 8170 XTは、高度なRF （Radiofrequency）プラズマ技術を利用して、ウェーハ表面全体に高密度で均一なプラズマを生成します。これにより、エッチング工程での材料の効率的かつ均一な除去と、アッシング工程でのフォトレジストやその他の有機残留物の効果的な除去が可能になります。このアセットは、高度なエンドポイント検出機能によってさらに強化されており、事前に定義されたパラメータに基づいてエッチング/アッシュ処理をリアルタイムで監視および制御できます。これにより、複雑で要求の厳しいプロセスレシピでも、正確で再現性の高い結果が保証されます。M 8170XTは、操作とメンテナンスの容易さを容易にするために、ユーザーフレンドリーなインターフェイスとソフトウェア制御で設計されています。このモデルは、機器の健康チェックのための包括的な診断および監視ツール、ならびにプロセス分析および最適化のためのデータロギングおよびレポート機能を備えています。HITACHI M 8170 XTは、半導体加工アプリケーションにおいて卓越した性能、信頼性、柔軟性を提供する最先端のエッチャー/アッシャーシステムです。高度な機能と革新的な技術により、このユニットは、高精度と高スループットが不可欠な要件である高度な製造環境の広い範囲に適しています。