中古 HITACHI M 712E #293750871 を販売中
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ID: 293750871
ヴィンテージ: 2000
Etcher
(3) Load ports
(2) Etch process Chambers
Buffer module
Transfer module
Process kit
EPD detector
SHIMADZU Turbos
HITACHI robot
EDWARDS IQDP dry pump
SMC Chiller
(7) Stick gas panel on each chamber
2000 vintage.
HITACHI M 712Eは、半導体ウェーハ等の高精度エッチング・アッシング用に設計された、高度で信頼性の高いエッチャー/アッシャーです。このデバイスは、高度な技術と高品質の材料により、非常に正確で高速なエッチングとアッシングが可能です。HITACHI M712Eは、ウェーハや基板の高速エッチングやアッシングを可能にするパーティクルアクセラレータチャンバーを備えています。これは自己完結型の真空チャンバー環境を持ち、継続的に維持され、クリーンで均一な表面結果をもたらします。高速エッチングプロセスは、ユニットの手動設定または精度と再現性を高めるためにユニットに統合されたソフトウェアの両方によって制御することができます。M 712Eには、複数の高エネルギーイオン源を利用した最適化されたエッチングおよびアッシングプロセスが含まれており、ウェーハと基板全体で非常に正確な結果と均一性を達成します。イオン源は、イオンの均一な線量と均一なイオンの流れの両方を提供し、高精度のエッチングとアッシングのための非常に高い深度分解能で均一な結果をもたらします。M712Eは、乾燥またはさまざまなウェットエッチングシステムの両方でエッチングまたはアッシングが可能で、制御性と柔軟性を向上させます。ドライエッチングの新技術や最新技術、各種ウェットエッチングシステムにも対応しています。新しい高解像度イメージングシステムは、最高品質の結果を確実にしながら、すべての基板にエッチングとアッシングを均一に適用します。HITACHI M 712Eは非常に効率的で信頼性が高く、高エネルギーのイオン源と精密機器により、大型基板でも非常に均一な結果を出すことができます。非常に汎用性が高く、シリコーン、チタン、アルミニウム、銅など、さまざまな材料をエッチングして灰にすることができます。また、高温にも対応でき、さまざまな洗浄システムで簡単にメンテナンスできます。HITACHI M712Eの卓越した品質と性能により、エッチングやアッシングのあらゆるニーズに最適なエッチャー/アッシャーです。ユニットの高度な技術は、最高レベルのサービスとケアを提供することに専念している非常に経験豊富なエンジニアリングチームと工場の技術者によってサポートされています。
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