中古 HITACHI M 501 #9161262 を販売中

HITACHI M 501は、さまざまなプロセスで優れた性能と信頼性を提供する、軽量で多目的エッチャー/アッシャーです。M 501は、最高温度950°Cのエッチングおよびアッシング機能を提供し、最大1100°Cの追加オプションを提供します。この組み合わせは、ソーラーウェハの薄型化、穴の分離、高度なMEMS製造などの高度なプロセスを提供します。ウエハはカセット上に置き、日立M 501の上部チャンバーに積み込み、下部チャンバーにはプロセスガスと無線周波数コイルを収納します。M 501は幅12"、奥行き16"、高さ14"を63ポンドとし、利用可能なほとんどの実験室スペースに収まるように設計されています。HITACHI M 501は、過温度および過圧保護を含む、一連の内部安全遮断機能を備えています。M 501の内部設計には、3つの独立したグラファイトヒーターブロックと、上下のプロセスチャンバー用の3つの独立した保護チャンバーが含まれています。HITACHI M 501は、独自のソフトウェアでプログラム可能な手動モードまたは自動モードで動作します。プロセスが開始されれば、内部圧力、温度およびガスの流量は色LCDのタッチパネルから監視され、記録することができます。M 501センサはまた、正確な温度と圧力制御を可能にし、ウェーハの一貫したエッチングまたはアッシングを保証します。また、HITACHI M 501では、ハイマンエッチャーなどのセルフバイアス技術を採用しており、1時間あたり最大1200個のウェーハの処理速度を実現しています。これにより、エッチングまたはアッシングプロセスのスループットと均一性が向上します。さらに、チャンバーは自己内蔵であり、密閉されており、クリーンルームの操作を必要としないことを意味します。これにより、プロセス移行の可能性が広がり、さまざまなラボや産業環境で必要に応じてM 501を使用できるようになります。HITACHI M 501は、幅広い用途で使用できる信頼性と効率の高いエッチャー/アッシャーです。密閉された設計により、クリーンなプロセスが保証され、一連の安全パラメータにより、安心して操作できます。ユーザーフレンドリーなコントロールと高度な機能を備えたM 501は、産業用および実験用アプリケーションに最適です。