中古 HITACHI M 308 #9068909 を販売中

HITACHI M 308は、基板の高精度、低コストのエッチングとアッシングを提供するように設計されたプロフェッショナルな自動エッチャー/アッシャーです。その機能は、高周波、ガルバノスタティックエッチャーだけでなく、低周波、ガルバノスタティックアッシャー、基板の化学的および物理的なパチナイズの両方に対処することができます。これにより、優れた再現性と均一性で信頼性の高いエッチング/アッシングが可能です。装置自体は、基地局、灰室、ガス源、および2つのキャビネットで構成されています。ベースステーションには、ガスの流れと利用を制御するために必要なすべての電子機器と発熱体、およびデバイスのコントロールパネルが含まれています。アッシングチャンバーは、エッチング/アッシング処理中に基板を配置し、ガス源が処理用のガスを供給する場所です。2つのキャビネットにはそれぞれガス源とアッシャーが収納されています。このデバイスは、RFとDCソースの組み合わせを使用して、エッチングと灰の基板を使用します。RFエッチングでは、高周波ソースを外部の低インピーダンス発生器を介して制御し、エッチング/アッシュするオブジェクトにRF電流を渡すために使用されます。RFエッチングは、様々な金属や誘電材料をエッチングすることができます。一方、DCエッチングは、より繊細で、より少ない発熱基板をエッチング/灰に使用します。これは、基板を通る電流をはるかに制御された方法でバイパスする低周波電源を利用します。HITACHI M-308には、安全性と診断機能も多数搭載されています。これらには、ユーザーと製品の安全を確保するためのプロセス内モニタリング、パフォーマンスの読み取り、緊急停止システムが含まれます。その温度と蒸着速度の範囲は調整可能であり、ユーザーはさまざまなレベルのエッチング/アッシングを実現する柔軟性を提供します。さらに、その低コストとサイズは、任意の実験室、生産または研究環境のための理想的な選択肢となります。