中古 GD SEMI 808 ATE #293831229 を販売中

GD SEMI 808 ATEは、先進的な半導体製造プロセス向けに設計された最先端のエッチャー/アッシャー装置です。この汎用性の高いツールは、高精度で再現性のある様々な材料のエッチング、洗浄、および表面修正のための幅広い機能を提供します。808 ATEは設置面積が小さいコンパクトな設計で、スペースが限られているクリーンルーム環境に最適です。ロボットウェハハンドリングやプロセスコントロールソフトウェアなどの高度なオートメーション機能を備えており、高スループットとプロセスの均一性を向上させます。GD SEMI 808 ATEの主な特徴の1つは、高周波RF電力と反応ガスを組み合わせてイオン化されたプラズマを生成する先進的なプラズマ生成システムです。このプラズマは、ウェーハの表面をエッチングまたは灰にし、材料を選択的かつ高精度に除去するために使用されます。このプラズマ源はチューニング可能であり、イオンエネルギーと密度を正確に制御することができ、その結果、幅広い用途において優れたプロセス制御と最適化が可能になります。また、高精度ガス搬送機を搭載しており、プロセスガスの流量と混合量を正確に制御することができます。これにより、複雑なエッチング化学の場合でも、一貫した予測可能なプロセス結果が保証されます。このツールは、塩素、フッ素、酸素などの幅広いガスを処理することができ、さまざまなエッチングおよびアッシングプロセスに適しています。808 ATEには高効率のポンピングアセットが装備されており、所望のプロセス圧力を達成し維持するためにプロセスチャンバーを迅速に避難させます。これにより、プロセスサイクル全体にわたって迅速なプラズマ点火と安定した動作が保証されます。また、高度なエンドポイント検出機能を備えており、プロセスをリアルタイムで監視し、エッチング/灰の深さを正確に制御できます。高度なプロセス機能に加えて、GD SEMI 808 ATEは使いやすさとメンテナンスのために設計されています。この機器は、直感的なソフトウェアコントロールを備えたユーザーフレンドリーなインターフェイスを備えているため、オペレータがプロセスをセットアップして監視することが容易です。このシステムには、内蔵の診断と予防メンテナンスルーチンも含まれており、最適なユニットのパフォーマンスと稼働時間を確保するのに役立ちます。全体的に808 ATEは、高度なプロセス機能、高スループット、優れた信頼性を提供する最先端のエッチャー/アッシャーマシンです。コンパクトな設計、高度なオートメーション機能、ユーザーフレンドリーなインターフェースを備えたこのツールは、最高の効率で高品質のプロセス結果を達成しようとする半導体製造設備に適しています。