中古 GASONICS / NOVELLUS PEP 3510 Iridia #293752827 を販売中

GASONICS / NOVELLUS PEP 3510 Iridia
ID: 293752827
ウェーハサイズ: 6"
Asher, 6" Dual chamber Component configuration: Cassette unit: Cluster PCM YASKAYA XU-CM 4730 Robot controller Chamber unit: (2) Lift and right PCM (2) MISC Controllers (2) Gas controllers (2) M/W Controllers (2) Lamp controllers (2) EUROTHREM 818S Temperature controllers (2) NIKON M680 Temperature controllers (2) ASTEK D13765 M/W Generator (Right side) (2) ENI ACG-6B RF Generators (2) MKS MWH-5 RF Matchers (2) MKS MWH-R RF Matcher boxes (2) MKS 600 Series Pressure controllers (2) MKS 638B-2-50-2 Pressure valves Gas supply: Gas name / Range / Size CF4 / 200 mm / 1/4" VAC N2 / 500 mm / 1/4" VAC O2 / 500 mm / 1/4" VAC HE / 2 SLPM / 1/4" VAC NF3 / 20 CC / 1/4" VAC O2 / 50 SCCM / 1/4" VAC Purge N2 / - / 1/4" VAC Utility description: Name / Description / Unit Power (AC) / ø3, 208V, 5wire, 150A, 50/60 Hz / Power Box PCW / QC6 Connector, 4EA / Chamber VAC / ISO 80, 2EA / Chamber CDA / 3 / 8" SWG Male, 2EA / Chamber.
GASONICS/NOVELLUS PEP 3510イリディアは、半導体製造プロセスで使用される高度で汎用性の高いエッチャー/アッシャー装置で、基板上の薄膜および残留物を正確かつ均一に除去します。堅牢なプラットフォーム上に構築されたこのツールは、大量の本番環境において卓越したパフォーマンス、信頼性、およびプロセス制御を提供するように設計されています。このシステムは、革新的な技術と機能を備えているため、半導体業界の幅広い用途に適しています。GASONICS PEP 3510イリディアの中核となるのは、プラズマエッチングとアッシングの高度な機能であり、異なる材料や構造のエッチング速度、選択性、均一性を正確に制御できます。このユニットには、反応性プラズマを生成する高密度プラズマ源が装備されており、基板から材料層を効率的かつ選択的に除去することができます。このプラズマ源は、高度なプロセスチャンバー設計およびガス供給システムと相まって、最適なプロセス性能と再現性を保証します。NOVELLUS PEP 3510 Iridiaは、さまざまなプロセスガスと化学物質を提供し、ユーザーが特定の要件を満たすためにエッチングとアッシングプロセスを調整する柔軟性を提供します。この柔軟性は、シリコン、酸化物、窒化物、金属、ポリシリコンなど、半導体製造で遭遇する多様な材料や構造に対処するために不可欠です。この機械のガス供給ツールは、所望のプロセス条件を維持し、材料除去に不可欠なプラズマ種の形成を容易にするために正確に制御されています。PEP 3510 Iridiaの主要な強みの1つは、高度なプロセスモニタリングと制御機能です。このアセットには、リアルタイムプロセスモニタリングセンサーが装備されており、現場のエンドポイント検出を可能にします。これは、正確なプロセス制御を実現し、一貫性のあるエッチング/アッシング結果を保証するために不可欠です。さらに、プロセス最適化のための高度なハードウェアとソフトウェアアルゴリズムを備えているため、必要なエッチプロファイルとエンドポイントをリアルタイムで調整できます。GASONICS/NOVELLUS PEP 3510 Iridiaは、高速ガススイッチング、高速ポンプダウンタイム、効率的なウェハハンドリング機能など、高スループット処理用に設計されています。これらの機能は、生産性の向上とサイクル時間の短縮に貢献し、プロセスのスループットが重要な要因である大量の製造環境に最適です。また、メンテナンスと保守の容易さを考慮して設計されており、ダウンタイムと運用コストを最小限に抑えます。要約すると、GASONICS PEP 3510 Iridiaは、高度なプラズマ処理機能、プロセス監視および制御機能、および高スループット性能を備えた最先端のエッチャー/アッシャーユニットです。幅広い半導体製造アプリケーションに対応できる汎用性の高いツールで、高度な半導体デバイスの製造に必要な精度、信頼性、効率をユーザーに提供します。NOVELLUS PEP 3510 Iridiaは、薄膜のエッチング、残留物の除去、半導体製造における重要なプロセス工程の実行にかかわらず、高品質で均一な結果を得るためのリーディングソリューションです。
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