中古 GASONICS / NOVELLUS PEP 3510 Iridia #293658056 を販売中

GASONICS/NOVELLUS PEP 3510イリディアは、高度な半導体アプリケーション向けに設計された高度なエッチャー/アッシャー装置です。180ワットのDCプラズマ源を搭載したPECVD（プラズマ強化化学蒸着）システムです。0-180ワットから0。1ワット単位で行える電源制御ユニットを搭載し、エッチング/アッシングプロセスを正確に制御できます。また、毎分5〜1000回転（rpm）の基板回転機能を備え、CCDカメラで制御して基板の正確な位置決めを行います。GASONICS PEP 3510イリディアは、エッチングとアッシングに最大2つまたは4つのガスを使用する石英エッチング/アッシングチャンバーで設計されています。石英は、エッチングとアッシングのプロセスが、プロセス中に分解する可能性のある金属などの汚染物質によって汚染されないことを保証します。NOVELLUS PEP 3510 Iridiaには、エッチング/アッシングチャンバーに幅広いガス混合物を供給できるガス供給ユニットもあります。これにより、エッチングおよびアッシング処理を制御するゲートバルブの開閉時間を微調整できます。PEP 3510イリディアは、90度の角度と最大200ワットの電力を持つ高純度イオン源を備えています。エッチングやアッシングに使用できる幅広いイオンやラジカルを生成することができます。GASONICS/NOVELLUS PEP 3510イリディアは、エッチング/アッシングの精密なレベルを可能にし、エッチング/アッシング時間、圧力、温度、流量など、幅広いプロセスパラメータを設定できるマルチレベルのガス制御機を備えています。最後に、GASONICS PEP 3510 Iridiaはプラズマモニターを搭載し、ガス濃度をリアルタイムで測定することができます。また、モニターを使用すると、プラズマ波をリアルタイムで表示し、最適なプロセス条件を保証することができます。結論として、NOVELLUS PEP 3510 Iridiaは、高度な半導体材料の精密で制御されたエッチングとアッシング用に設計されたハイエンドエッチャー/アッシャツールです。高度な機能により、ユーザーはプロセスパラメータを制御するだけでなく、プロセスをリアルタイムで監視できるため、エッチング/アッシング操作に最適です。