中古 GASONICS / NOVELLUS Aura 2000 #9247831 を販売中

GASONICS/NOVELLUS AURA 2000は、無線周波数（RF）電源を使用して複数の半導体ウェーハで機能深度を同時にエッチングおよびクリーニングするエッチャー/アッシャー装置の一種です。このシステムは、基板や前処理を必要とせずにエッチングと洗浄の両方の機能を実行するように設計されています。エッチング工程では、エネルギー源は通常、単位のマグネトロンによって生成されるRF波です。クリーニングでは、アルゴンなどの原始ガスを使用して、エッチング工程で作成されたスラグ粒子を除去します。GASONICS Aura 2000マシンは、高度な広域プラズマ源技術の結果である高度なプロセス制御と均一性を特徴としています。この技術により、RF周波数が基板全体に均等に分布し、均一なエッチングと洗浄が保証されます。さらに、その深いプラズマ源は、75ナノメートル以上の特徴深度をエッチングし、クリーンにすることができます。超低ノイズ設計により、非常に小さな機能サイズでもクリーニング結果を成功させることができます。さらに、NOVELLUS Aura 2000には、ユーザーがプロセスのパフォーマンスを最大限に引き出すことができるいくつかの先進技術が搭載されています。これらの機能の例としては、高速処理、高純度操作、高度なハードウェアおよびソフトウェア制御機能、高速サイクルタイム、リモート監視機能などがあります。包括的な制御パッケージにより、ユーザーはプロセスパラメータを簡単に監視および調整して、一貫したスループットを確保できます。Aura 2000の高度なデザインは、ユーザーが特定のニーズに合わせてツールをカスタマイズすることもできます。このカスタマイズ性により、ユーザーはガスフロー、RFパワー、およびその他のパラメータを調整して最適な結果を得ることができます。さらに、その大きなチャンバーと高度な暖房および冷却機構は、ハードウェアのパフォーマンスをさらに最適化するための温度制御を提供します。全体として、GASONICS/NOVELLUS Aura 2000は、幅広い機能と機能を備えた高度なエッチャー/アッシャー資産です。RF電源、広域プラズマ源、カスタマイズ可能な機能により、半導体ウェーハのエッチングおよびクリーニングに最適です。高度なプロセス制御と均一性により、ユーザーは生産性を最大限に高めることができ、高度なハードウェアとソフトウェア機能により、ユーザーはプロセスを包括的に制御できます。GASONICS Aura 2000を使用することで、75ナノメートル以上の機能深度を簡単にエッチングしてクリーンにすることができ、成果を上げることができます。