中古 GASONICS / NOVELLUS Aura 2000 #293654418 を販売中
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GASONICS/NOVELLUS Aura 2000は、多種多様な半導体加工アプリケーションで使用するために設計された高性能プラズマエッチャー/アッシャーです。このプラズマエッチャー/アッシャーはAdvanced Plasma Technology （APT）を使用して、アルミニウム、銅、チタンなどの先進金属にエッチングおよびアッシング特性を提供します。GASONICS Aura 2000は、ハイエンドのプロセス性能と信頼性のために設計されており、エッチングおよびアッシング用途の業界標準です。NOVELLUS Aura 2000は独自の低圧プラズマソース（LPPS）を使用して、高度なエッチングとアッシング機能を実現しています。この技術により、エッチング速度は圧力とチャンバー/ソース温度の両方によって制御されます。圧力および温度は顧客のエッチングおよび灰の条件を満たすために変更することができます。LPPSはまた、高いイオン密度を可能にし、エッチングの均一性と選択性を向上させます。さらに、Aura 2000には独自の内部RFシステム（PIRFS）が搭載されており、エッチングレートとパワーレベルの正確かつ効率的な柔軟性を実現しています。PIRFSはまた、基板全体の個々のエッチング/アッシュゾーンを制御することにより、プロセスをリアルタイムで監視し、プロセスを微調整することを可能にします。これにより、より効率的な操作と一貫したパフォーマンスが可能になります。GASONICS/NOVELLUS Aura 2000は、非常に微細な線パターンの深さと均一性を達成することができ、困難な材料のパターン化に最適です。高いエッチング速度、均一性、選択性により、エッチングのニーズに合わせて最適な構成を選択する柔軟性が得られます。GASONICS Aura 2000は、インターロックや診断機能の強化などの安全機能も備えています。診断機能は、システムが適切に動作していることを確認するのに役立ちますが、インターロックは危険な状態での動作から保護するのに役立ちます。NOVELLUS Aura 2000は、他のプロセスツールとの互換性を提供する強力なエッチャー/アッシャーであり、あらゆる半導体環境に容易に統合できます。その高度な機能と技術により、このエッチャー/アッシャーは、金属、窒化物、酸化物に対するエッチングおよびアッシングの幅広いニーズに適しています。
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