中古 GASONICS / NOVELLUS A 2000LL #293595030 を販売中
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ID: 293595030
Asher
Part No: 99-0339
Non-copper
Components:
Qty / Make / Model / Description / Part number
(1) / - / - / Load lock chamber / A95-053-02
(1) / GASONICS / 94-1175 / Indexer elevator / 04630-003
(1) / GASONICS / 94-1174 / Indexer elevator / 04630-004
(1) / GASONICS / 94-1118 / Load lock elevators / 04290-201
(1) / GASONICS / 94-1119 / Load lock elevators / 04290-101
(1) / GASONICS / - / Loadlock rear panel display / -
(1) / MKS INSTRUMENTS / Baratron / - / 122AA-00010DB
(1) / MKS INSTRUMENTS / 152 / Pressure controller / 152H-P0
(1) / MKS INSTRUMENTS / - / Valve / 253B-11020
(1) / - / - / HNL Asher module / A93-021-01
(1) / VARIAN / - / Valve / L6281-701
(1) / VARIAN / - / Valve / L6281703
(1) / VARIAN / - / Valve / L6280-302
(1) / OMRON / Sysmac C40H / PLC / C40H-060R-DE-V1
PCB:
Make / Model / Description / Part number
GASONICS / - / Controller board / 90-2658
GASONICS / - / Display decoder / 90-2609
GASONICS / - / Loadlock interface BD / 90-2608
HINE DESIGN / - / ARM Controller board / 02423-001 / 06764-001
NOVELLUS / A2000 / Interlock BD / 90-2735
Wafer handling robot / arm unit missing
CE Marked.
GASONICS/NOVELLUS A 2000LLは半導体産業の研究開発用に設計された高度なエッチャー/アッシャーです。このデバイスは、わずか1ナノメートルの精度でシリコン基板上に非常に薄い層の材料を生成することができます。これは、物理的な蒸着技術と組み合わせたケミカルエッチングプロセスを使用して行います。これは、酸化アルミニウムや窒化アルミニウムなどの薄い層をバルク基板に制御するために使用できます。GASONICS A 2000LLには2つの強力なレーザーシステムが装備されており、そのうちの1つは基板をエッチングするために使用され、もう1つは薄い層を堆積させるために使用されます。また、ユーザーがより良い結果を得るために圧力、温度、および他のパラメータを調整できるように、プロセスパラメータを監視するためのセンサーが内蔵されています。非常にきれいな作業環境を提供し、その精度と精度は比類のないものです。NOVELLUS A 2000LLのビームサイズは最大200ミクロンで、生成する層は1ナノメートルの厚さまで制御できます。それは1時間あたりの2000までのウエハを作り出すことができる非常に速い装置です。さらに、その効率と信頼性は一流であり、オペレータの介入を最小限に抑える必要があります。結論として、A 2000LLは半導体産業の研究開発用に特別に設計された高度なエッチャー/アッシャーです。高精度・高精度の高速で安全な装置で、1ナノメートルの精度でシリコン基板上に極めて薄い材料を生成することができます。効率、信頼性、クリーンな作業環境により、研究開発アプリケーションに最適なデバイスです。
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