中古 GASONICS Aura 1000 #9390033 を販売中

GASONICS Aura 1000は半導体産業の半導体ウェーハ処理のために設計された高度なエッチャー/アッシャー装置です。この装置は、高精度で一貫性のあるシリコンウェーハから材料層をエッチングして除去することにより、集積回路の製造において重要な役割を果たします。Aura 1000は、信頼性、性能、プロセスの柔軟性で知られるGASONICS Auraシリーズの一部です。GASONICS Aura 1000は、プラズマエッチングと剥離技術を利用して、ウエハ表面からフィルムやフォトレジストの層を除去します。このシステムは真空環境で動作し、プロセスの純度を維持し、エッチング処理を制御します。小型の4インチウェーハから大型の8インチウェーハまで、さまざまなウェーハサイズに対応できるチャンバーを備えた堅牢な構造で、汎用性の高い加工が可能です。Aura 1000の主要なコンポーネントの1つは、エッチング処理が行われるプラズマチャンバーです。このチャンバーには、プロセスガスに高周波エネルギーを適用してプラズマを発生させるRF電源が装備されています。このプラズマは、ウェーハ表面の材料と反応するために使用され、目的の層のエッチングまたはストリッピングにつながります。ガス流量、圧力、パワーレベル、温度などのプラズマパラメータを正確に制御し、均一で再現性のあるエッチング結果を実現します。GASONICS Aura 1000は、高度なプロセス監視および制御システムを備えており、高いプロセス再現性と歩留まりを保証します。このマシンにはリアルタイムのエンドポイント検出機能が搭載されており、光放射分光法やその他のモニタリング技術に基づいて正確なプロセスエンドポイント判定が可能です。これにより、エッチング処理が所望のエンドポイントで停止し、ウェーハレイヤーのエッチングの過剰またはエッチングが防止されます。このツールはまた、エッチングされる材料の特定の要件に基づいてカスタマイズできるインテリジェントなプロセスレシピを備えています。ユーザーは、エッチング速度、選択性、均一性、プロファイル制御などのプロセスパラメータを定義して、さまざまな材料や構造のエッチング結果を得ることができます。Aura 1000は、酸化ケイ素、窒化ケイ素、ポリシリコン、アルミニウムなど幅広い材料を処理することができ、さまざまな半導体加工アプリケーションに対応する汎用性の高いツールです。GASONICS Aura 1000は、エッチング機能に加えて、ウェーハ表面からフォトレジストなどの有機層を除去するためのアッシャーとしても機能します。アセットは、除去される材料の種類に応じて、ウェットまたはドライアッシングモードで動作できます。この柔軟性により、半導体メーカーは単一の機器で複数のプロセス手順を実行でき、全体の処理時間とコストを削減できます。全体的に、Aura 1000は、半導体ウェーハ処理の高精度、プロセス制御、汎用性を提供する最先端のエッチャー/アッシャーモデルです。高度なプラズマ技術、インテリジェントなプロセス制御、信頼性の高い性能を備えたGASONICS Aura 1000は、高品質のエッチング結果を達成し、生産効率を向上させたい半導体メーカーにとって貴重なツールです。