中古 GASONICS Aura 1000 #9241898 を販売中

GASONICS Aura 1000は、プラズマエッチングおよびストリッピングプロセスの半導体業界で、集積回路の製造に広く使用されている最先端のエッチャー/アッシャー機器です。この先進的なシステムには、最先端の技術と革新的な機能が組み込まれており、重要な半導体製造アプリケーションに高精度、信頼性、およびプロセス制御を提供します。オーラ1000は、シリコン、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、金属など様々な材料のエッチング、フォトレジストアッシングなど、幅広いプロセス能力を可能にする汎用性の高いチャンバー設計を特徴としています。このユニットには複数のガスラインとマスフローコントローラが装備されており、プロセス化学とガスの流量を正確に制御し、ウェハ全体で均一で一貫したエッチングとアッシング性能を保証します。GASONICS Aura 1000の重要なポイントの1つは、高周波RF電源を使用してプロセスチャンバーに非常に均一で安定したプラズマを作成する高度なプラズマ生成マシンです。プラズマ化学は、ウェーハの特徴のエッチング選択性、エッチング速度、プロファイル制御を決定する上で重要な役割を果たします。このツールは、特定のデバイス構造や材料のプロセス条件を最適化するために、電源、圧力、ガス組成、バイアス電圧などのプラズマパラメータのカスタマイズ可能なチューニングオプションを提供します。Aura 1000は、プラズマ生成資産に加えて、ウェーハ表面へのプロセスガスの効率的かつ均一な配送を保証する革新的なガス配分モデルを備えています。本装置にはガスシャワーヘッド技術が組み込まれており、ウェーハ全体のガスフローのパターンと分布を正確に制御することができ、ウェーハ表面全体で均一なエッチングとアッシング速度が得られます。ガス分配システムはまた、プロセスのダウンタイムを最小限に抑え、スループットを最大化するために、高速ガスのパージとチャンバークリーニングサイクルを容易にします。GASONICS Aura 1000は、高度なエンドポイント検出機能を備えており、エッチングまたは灰プロセスのリアルタイム監視とプロセスエンドポイントの正確な制御を可能にします。このユニットは、EtchまたはAshプロセスの完了に関連するプラズマ放出スペクトルやその他のプロセスパラメータの変化を検出するために、光放射分光法（OES）やその他の高度な技術を利用しています。これにより、正確なエンドポイント検出とプロセス制御が可能になり、重要なデバイス構造に最適なエッチング深さの均一性と選択性が保証されます。さらに、Aura 1000には包括的なプロセスデータロギングとレシピ管理マシンが組み込まれており、プロセスレシピの保存と取得、プロセスパラメータのリアルタイム監視、プロセスの最適化とトラブルシューティングのための履歴データの分析が可能です。このツールのユーザーフレンドリーなインターフェースは、プロセスパラメータ、アラーム、およびステータスインジケータを直感的に制御および可視化し、オペレータがエッチングまたはアッシュプロセスを最小限のトレーニングで簡単に設定および監視できるようにします。全体として、GASONICS Aura 1000は、半導体製造アプリケーションにおいて比類のないプロセス制御、精度、信頼性を提供する高性能エッチャー/アッシャー資産です。先進的なプラズマ生成、ガス配分、エンドポイント検出、データ管理機能により、次世代集積回路の製造において優れたエッチングおよびストリッピング性能を提供します。