中古 GASONICS Aura 1000 #9105746 を販売中

ID: 9105746
ウェーハサイズ: 4"-6"
Plasma ashers, 4" - 6" Option available: Dry pumps 208 V, 50 Hz, 20 A, 3Ph.
GASONICS Aura 1000は、半導体製造およびその他のハイテク産業における様々な材料の精密かつ効率的な処理のために設計された高度なエッチャー/アッシャー装置です。この装置は、優れた性能、信頼性、汎用性で知られており、研究開発や生産環境に不可欠なツールとなっています。Aura 1000には最先端のプラズマ加工技術が搭載されており、優れた精度と再現性で幅広いエッチングおよびアッシング処理を行うことができます。このシステムは、プラズマガス、RFパワー、および温度制御の組み合わせを利用して、材料表面と相互作用する非常に反応性の高い種を作成し、材料の除去または変更を制御します。GASONICS Aura 1000の重要なポイントの1つは、高度なプロセス制御機能です。このユニットには、ガスの流れ、圧力、温度、RF電力、プラズマ密度などのプロセスパラメータをリアルタイムで監視できる高度な監視および測定ツールが装備されています。これにより、プロセス条件を最適化して最大限の効率と均一性を実現し、プロセスの再現性と製品品質を向上させます。さらに、Aura 1000は高度な自動化とプロセスのカスタマイズオプションを提供しており、ユーザーはマシンを特定の処理要件に合わせて調整することができます。このツールには、プロセスレシピの簡単なプログラミング、パラメータの調整、およびプロセスパフォーマンスの監視を可能にするユーザーフレンドリーなインターフェースが装備されています。さらに、この資産は、高度なデータ分析とプロセス最適化のためのさまざまなソフトウェアツールと統合することができます。ハードウェアの面では、GASONICS Aura 1000は、長期的な信頼性と安定性を確保する高品質の部品と材料で構築されています。このモデルは、堅牢な真空チャンバ、高性能RFジェネレータ、精密ガス供給装置、および高度なプラズマソースを備えており、ダウンタイムを最小限に抑えて高スループット処理を可能にします。Aura 1000は、シリコンウェーハ、III-V化合物、セラミックス、ガラス、ポリマーなど、幅広い基板加工が可能です。フォトレジスト除去、酸化エッチング、金属エッチング、誘電エッチングなど、さまざまなエッチングおよびアッシング処理をサポートします。汎用性と柔軟なプロセスオプションを備えたGASONICS Aura 1000は、半導体、MEMS、 LEDなどのハイテク産業の幅広い用途に適しています。全体として、Aura 1000は、要求の厳しいプロセスアプリケーションに比類のない性能、信頼性、柔軟性を提供する、最高レベルのエッチャー/アッシャーユニットです。高度な技術、プロセス制御機能、カスタマイズ可能なオプションを備えたGASONICS Aura 1000は、半導体加工などで高品質な結果を達成するための貴重なツールです。
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