中古 EVACTRON 25 Zephyr #293818705 を販売中

エレクトロン25 Zephyrは、半導体の製造、研究、およびその他の産業環境における高性能プラズマ洗浄および表面処理用途向けに設計された最先端のエッチャー/アッサー装置です。この先進的なシステムは、革新的な技術と信頼性の高い性能を組み合わせて、さまざまな基板表面から有機汚染物、炭化水素およびその他の不純物を精密かつ効率的に除去する優れた結果をもたらします。25 Zephyrの中核には、強力なプラズマ源があり、非常に反応性の高い酸素プラズマを生成し、分子レベルで表面を効果的にエッチングしてきれいにします。このプラズマ源には高周波RFジェネレータが搭載されており、安定した均一なプラズマ励起が可能で、一貫した処理結果が得られます。また、ガス流量と組成を正確に調節できる最先端のガス流量制御装置を搭載しており、ユーザーは特定の洗浄要件を満たすためにプラズマ化学を調整することができます。EVENTRON 25 Zephyrは、幅広いサンプルサイズや形状に対応した汎用性の高いチャンバー設計を採用しており、ウェーハ加工、MEMS加工、表面改質など様々な用途に適しています。部屋は耐久性および化学腐食への抵抗を保障するためにステンレス鋼またはアルミニウムのような良質材料から、成っています。このツールはまた、安定した処理環境を維持し、敏感な基板の過熱を防ぐための高度な温度制御メカニズムを備えています。25 Zephyrの主な特徴の1つは、ユーザーフレンドリーなインターフェイスであり、オペレータはタッチスクリーンのコントロールパネルを使用してクリーニングプロセスを簡単にプログラムおよび監視できます。このアセットは、一般的な用途に対応するプリセットクリーニングレシピと、より特殊な治療のためのカスタマイズ可能なパラメーターを提供します。直感的なソフトウェアインターフェイスは、プラズマパワー、ガス流量、チャンバー圧力などの主要なプロセスパラメータをリアルタイムで監視することもでき、ユーザーは洗浄性能を最適化し、一貫した結果を保証することができます。安全性と信頼性の観点から、ESQUTRON 25 Zephyrには、過圧および過熱保護、ガス漏れ検出、緊急遮断システムなど、複数の組み込みの安全機能が装備されています。また、電気安全性と電磁適合性のための業界標準を満たすように設計されており、高度に規制された製造環境でのトラブルのない動作を保証します。全体として、25 Zephyrは、要求の厳しいプラズマ洗浄および表面処理アプリケーション向けの最先端ソリューションであり、優れた性能、柔軟性、使いやすさを提供します。半導体製造、研究所、工業生産施設などで使用されるエッチャー/アッシャー装置は、高品質の表面清浄度と材料加工結果を達成するための貴重なツールです。