中古 E&R Plasmax 602A #9217454 を販売中

E&Rプラスマックス602Aは、半導体加工業界で薄膜材料の成膜およびエッチングに使用されるエッチャーおよびアッシャーです。この工業用グレードのツールは、高品質で再現性のある結果を達成するために同軸プラズマ源を利用しています。この装置は、電子サイクロトロン共鳴（ECR）技術をベースにした、誘導結合型の同軸二重導波路プラズマ源を備えており、製品のニーズに合わせて電力要件を柔軟に制御できます。さらに、ECRシールドは近隣工具との電気干渉を最小限に抑えながら、優れた温度制御と効率を備えており、信頼性の高いプロセス結果を実現します。ECRソースベースのシステムにより、基板表面からレジスト残留物を除去するためのプラズマ支援デスミア機能が可能になります。このツールには「、Cr-Blocker Plate」設計もあり、プロセスチャンバ内のCr含有粒子の放出を防止し、追加の環境汚染が発生しないようにします。この工具では酸化物除去も可能であり、除去が必要な酸化物の種類に応じて様々な化学物質が使用されています。エッチング速度制御のために、Plasmax 602AにはRF周波数スキャン技術と軸方向バイアスマグネトロン技術が組み合わされており、さまざまな材料をエッチングするための幅広い精密な電力レベルを生成します。さらに、統合されたクローズドループのフィードバック制御により、プロセスの精度と再現性が保証されます。このユニットは、将来的には300mmウェーハまでの処理能力を持つ200mmウェーハの処理が可能です。このツールはまた、デュアルファンバブラーと熱非対称シャワー制御を備えたプロセスガス供給機を備えており、均一なガス流量を確保し、より均一なエッチング処理を可能にする信頼性の高いガス圧力と温度安定性を備えています。E&R Plasmax 602Aは、高精度、高収率の製品のさまざまな酸化物エッチングおよびdesmearプロセスに適しています。このツールは、信頼性、精度、コスト効率により、半導体加工産業の生産歩留まりを最大化することで知られています。