中古 DENTON VACUUM Infinity FA #293798635 を販売中

はじめにDENTON VACUUM Infinity FAは、基板の精密かつ均一なプラズマ処理用に設計された最先端のエッチャー/アッシャー装置です。この汎用性の高いツールは、先進技術とユーザーフレンドリーな機能を組み合わせて、半導体、MEMS、光学などの幅広い分野で高性能な結果をもたらします。インフィニティFAは、革新的なデザインと最先端の機能を備え、研究開発や量産環境に欠かせないツールです。主な特長デントン真空インフィニティFAは、プロセス制御と再現性を最適化するために、超高真空レベルを維持するように設計された堅牢で信頼性の高い真空チャンバーを備えています。チャンバーには、運転中のオペレータの安全を確保するために、過圧保護、真空インターロック、緊急停止機能など、さまざまな高度な安全機能が装備されています。また、クイックアクセスポートを備えているため、メンテナンスと保守が容易で、ダウンタイムを最小限に抑え、生産性を最大化できます。Infinity FAの中心は、基板表面全体に非常に均一なプラズマを生成する高度なプラズマ源です。このプラズマ源には高周波RFジェネレータが搭載されており、電力、ガスの流れ、圧力などのプロセスパラメータを正確に制御できます。RFジェネレータは、最大の電力伝達効率と安定したプラズマ動作を保証するために、自動マッチングネットワークとインピーダンスチューニング機能を備えています。DENTON VACUUM Infinity FAは、プロセスガスや混合物の正確な制御を可能にする汎用性の高いガス供給システムも備えています。このユニットには、正確なガス流量調節のためのマスフローコントローラと、カスタムガス混合物を作成するためのマルチガス射出機が含まれています。この柔軟性により、繊細な材料のエッチングや薄膜の堆積など、プラズマ化学を特定の要件に合わせて調整することができます。Infinity FAは、高度なプラズマ源とガス供給ツールに加えて、一貫した信頼性の高い結果を保証するさまざまなプロセス監視および制御ツールを備えています。これらのツールには、プラズマ種をリアルタイムで監視するための光放射分光法（OES）や、エッチングおよびアッシングプロセスを正確に制御するためのエンドポイント検出機能が含まれます。このアセットには高度なレシピ管理ソフトウェアも搭載されており、ユーザーは複雑なプロセスシーケンスをプログラムして保存し、簡単に取得および実行することができます。アプリケーションDENTON VACUUM Infinity FAは、反応イオンエッチング（RIE）、プラズマ強化化学蒸着（PECVD）、プラズマ洗浄/アッシングなど、幅広いプラズマ処理アプリケーションに最適です。半導体、MEMS、光学、ナノテクノロジー分野の最先端技術に取り組む研究室、大学、生産施設に最適な設計と高度な機能を備えています。結論インフィニティFAは、幅広いプラズマ処理アプリケーションにおいて比類のない性能、柔軟性、信頼性を提供する高度なエッチャー/アッシャーモデルです。その革新的な設計、最先端の技術、ユーザーフレンドリーな機能により、制御された真空環境で正確で反復可能な結果を達成しようとする研究者、エンジニア、メーカーにとって貴重なツールとなります。DENTON VACUUM Infinity FAは、次世代半導体デバイスの開発や材料科学の基礎研究に取り組んでいるかどうかにかかわらず、プラズマ処理のすべてのニーズに最適な選択肢です。