中古 CANON / ANELVA ILD 4002 #9111252 を販売中

CANON/ANELVA ILD 4002は、半導体、MEMS、オプトエレクトロニクス産業におけるディープリアクティブイオンエッチング（DRIE）用途向けに設計された先進的なエッチャーおよびアッシャー装置です。このシステムは、エッチングとプラズマ操作を精度と制御で完了することができます。CANON ILD 4002は、多種多様なプロセスパラメータを備えており、幅広い材料にわたる複雑な機能エッチングを可能にします。このエッチングユニットは、ヒ素ガリウム（GaAs）からポリシリコンまで、エッチングが難しい様々な材料に適しています。ANELVA ILD 4002の高度なデュアルチャンバーエッチングマシンは、精密で再現性のあるディープエッチング機能を備えています。このエッチャーは、最適化された無線周波数（RF）マッチングと結合電力を備えていますが、高圧エッチング環境により、幅広い基板での高速エッチングが可能です。また、さまざまなエッチングおよびアッシング操作に柔軟性を提供する幅広いアクセサリーオプションを備えています。ILD 4002の革新的なチャンバー設計により、汚染の可能性を低減し、基板への容易なアクセスを可能にします。このコンパクトエッチャーとアッシャーツールは、幅広い材料でディープエッチング操作が可能です。また、精密エッチングおよびアッシング要件に対応する高精度アッシング機能を提供します。CANON/ANELVA ILD 4002の革新的な設計により、プロセス温度が低く、ガス抜きが低く、エッチングおよびアッシング操作のための最小限の汚染が保証されます。CANON ILD 4002は、さまざまな生産性と高精度のエッチングとアッシング機能を提供します。ナノスケールエッチング機能を備え、50nmまでの機能を実現します。さらに、このアセットは低温エッチング機能を備えており、最大350 nm/minのエッチング速度とポストエッチング洗浄プロセスを備えています。また、ファインフィーチャーの選択制御、最大2,500nm/minのエッチング速度、欠陥抑制プロセスなど、さまざまなエッチングプロセスと機能を備えています。ANELVA ILD 4002は16インチのウェーハ機能も備えており、直接ウェーハ処理が可能です。ILD 4002は、ディープリアクティブイオンエッチング（DRIE）アプリケーションの厳しい要件を満たすように設計された高度なエッチャーおよびアッシャー装置です。高精度のエッチングおよびアッシング機能、ナノスケールエッチング機能、最大50nmの機能を提供します。このシステムには、ポストエッチングクリーニングプロセスや欠陥抑制プロセスなど、さまざまなエッチングプロセスと機能があります。