中古 CANON / ANELVA ECR-300E #9380734 を販売中

キヤノン/ANELVA ECR-300Eは、高性能半導体デバイス製造用に設計された最先端のエッチングおよびアッシング装置です。先進のプラズマソース技術をはじめ、幅広い標準機能やオプションを搭載したコンパクトで高効率なシステムです。キヤノンECR-300Eは、優れた均一性と再現性で最適化されたスパッタプロセスを提供し、最高の品質と生産性を保証します。ANELVA ECR-300Eは、最大600mmウェーハの互換性を提供し、独自の5レベルのフラットウェーハ搬送ユニットを備えており、手動で介入する必要なく、独立したプロセスチャンバーを介してウェーハを搬送することができます。ウェーハトランスポートマシンは、プロセスの最大化を実現し、過剰処理によるウェーハの損傷や汚染を防止するように設計されています。マルチプロセスチャンバーアーキテクチャは、スパッタリングプロセス全体にわたって動的ウェハ制御を提供し、イオン爆撃角度と基板バイアスの動的最適化を可能にします。さらに、ECR-300Eは200MHzまでの超高周波の構成と、マグネトロン（DCおよびRF）や極度の高密度プラズマ（EHD）マルチターゲットソースなどの高度なスパッタリングソースオプションを備えています。CANON/ANELVA ECR-300Eは、1つまたは2つのソースを同時に使用してモノクロフィルムまたは多色フィルムを生成することができ、プラズマドーピングのアプリケーションにも対応できます。このツールはさらに、複数のプロセス制御および監視機能を備えており、プロセス圧力、温度、電力などのプロセスパラメータを正確に制御できます。キヤノンECR-300Eは、最適なプロセス温度を提供し、低温および低温アニーリングに使用できる独自の2段階液流冷却アセットを備えています。このモデルはまた、より高い精度制御のためのクローズドループ冷却、ならびに簡単なプロセス設定のための自動レシピ管理装置を提供します。また、高性能自動ガス制御機能を誇るANELVA ECR-300Eは、高精度な品質管理を可能にします。ECR-300Eは、長年の運用における最適な性能と信頼性のために、最高の業界基準を満たすように設計されています。このシステムは、スペアパーツ、メンテナンス契約、包括的なテクニカルサポートなど、幅広いサービスとサポートにも支えられています。CANON/ANELVA ECR-300Eは、あらゆる高セキュリティエッチングおよびアッシングプロセスに最適で、さまざまな半導体デバイス製造アプリケーションに品質と効率を提供します。